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1. (WO2010022014) TRAITEMENT DE DONNÉES DE RÉSISTIVITÉ AZIMUTALE DANS UN GRADIENT DE RÉSISTIVITÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/022014    N° de la demande internationale :    PCT/US2009/054102
Date de publication : 25.02.2010 Date de dépôt international : 18.08.2009
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    15.06.2010    
CIB :
G01V 3/34 (2006.01), G01V 3/18 (2006.01), G01V 3/38 (2006.01), E21B 47/00 (2006.01)
Déposants : BAKER HUGHES INCORPORATED [US/US]; P.O. Box 4740 Houston, TX 77210-4740 (US) (Tous Sauf US).
MEYER, Wallace, H. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : MEYER, Wallace, H.; (US)
Mandataire : BYNUM, Todd, A.; Baker Hughes Incorporated P.O. Box 4740 Houston, TX 77210-4740 (US)
Données relatives à la priorité :
12/194,635 20.08.2008 US
Titre (EN) PROCESSING OF AZIMUTHAL RESISTIVITY DATA IN A RESISTIVITY GRADIENT
(FR) TRAITEMENT DE DONNÉES DE RÉSISTIVITÉ AZIMUTALE DANS UN GRADIENT DE RÉSISTIVITÉ
Abrégé : front page image
(EN)A method for increasing sensitivity in a measurement of at least one of magnitude and direction of resistivity in a subsurface material, the method including: performing a first set of measurements of resistivity of the subsurface material using a first logging instrument; constructing a model of a background signal using the first set of measurements; calculating a predicted response of a second logging instrument to the model of the background signal; performing a second set of measurements of at least one of magnitude and direction of resistivity of the subsurface material using the second logging instrument; deriving a second logging instrument response from the second set of measurements; and subtracting the predicted response from the second logging instrument response to produce a corrected response that has greater sensitivity than the second logging instrument response.
(FR)La présente invention concerne un procédé permettant d'accroître la sensibilité lors de la mesure de l'intensité et/ou de la direction de la résistivité dans un matériau de sous-surface. Ledit procédé inclut les étapes consistant à réaliser un premier ensemble de mesures de résistivité du matériau de sous-surface au moyen d'un premier instrument de diagraphie; à construire un modèle d'un signal d'arrière-plan par l'utilisation du premier ensemble de mesures; à calculer une réponse prévue d'un second instrument de diagraphie au modèle du signal d'arrière-plan; à réaliser un second ensemble de mesures de l'intensité et/ou de la direction de la résistivité du matériau de sous-surface par l'utilisation du second instrument de diagraphie; à dériver une réponse du second instrument de diagraphie à partir du second ensemble de mesures; et à retrancher, de la réponse du second instrument de diagraphie, la réponse prévisible pour produire une réponse corrigée qui présente une sensibilité supérieure à la réponse du second instrument de diagraphie.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)