WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2010021539) DISPOSITIF DE GÉNÉRATION D'UNE DÉCHARGE PLASMA POUR FORMATION DES MOTIFS DE LA SURFACE D'UN SUBSTRAT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/021539    N° de la demande internationale :    PCT/NL2008/050555
Date de publication : 25.02.2010 Date de dépôt international : 20.08.2008
CIB :
H05H 1/24 (2006.01)
Déposants : VISION DYNAMICS HOLDING B.V. [NL/NL]; Lodewijkstraat 1a NL-5652 AC Eindhoven (NL) (Tous Sauf US).
BLOM, Paulus Petrus Maria [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
ROSING, Philip [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
STEVENS, Alquin Alphons Elisabeth [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
HUIJBREGTS, Laurentia Johanna [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
BOS, Eddy [NL/NL]; (NL) (US Seulement)
Inventeurs : BLOM, Paulus Petrus Maria; (NL).
ROSING, Philip; (NL).
STEVENS, Alquin Alphons Elisabeth; (NL).
HUIJBREGTS, Laurentia Johanna; (NL).
BOS, Eddy; (NL)
Mandataire : HATZMANN, M.J.; Vereenigde Johan de Wittlaan 7 NL-2517 JR Den Haag (NL)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) DEVICE FOR GENERATING A PLASMA DISCHARGE FOR PATTERNING THE SURFACE OF A SUBSTRATE
(FR) DISPOSITIF DE GÉNÉRATION D'UNE DÉCHARGE PLASMA POUR FORMATION DES MOTIFS DE LA SURFACE D'UN SUBSTRAT
Abrégé : front page image
(EN)Device for generating a plasma discharge for patterning the surface of a substrate, comprising a first electrode having a first discharge portion and a second electrode having a second discharge portion, a high voltage source for generating a high voltage difference between the first and the second electrode, and positioning means for positioning the first electrode with respect to the substrate, wherein the positioning means are arranged for selectively positioning the first electrode with respect to the second electrode in a first position in which a distance between the first discharge portion and the second discharge portion is sufficiently small to support the plasma discharge at the high voltage difference, and in a second position in which the distance between the first discharge portion and the second discharge portion is sufficiently large to prevent plasma discharge at the high voltage difference.
(FR)L'invention porte sur un dispositif de génération d'une décharge plasma pour former les motifs de la surface d'un substrat, comprenant une première électrode ayant une première partie de décharge et une seconde électrode ayant une seconde partie de décharge, une source de haute tension pour générer une haute différence de potentiel entre les première et seconde électrodes, et des moyens de positionnement pour positionner la première électrode par rapport au substrat, les moyens de positionnement étant conçus pour positionner sélectivement la première électrode par rapport à la seconde électrode dans une première position dans laquelle une distance entre la première partie de décharge et la seconde partie de décharge est suffisamment petite pour supporter la décharge plasma à la haute différence de potentiel, et dans une seconde position dans laquelle la distance entre la première partie de décharge et la seconde partie de décharge est suffisamment grande pour empêcher une décharge plasma à la haute différence de potentiel.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)