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1. (WO2010021391) COMPOSÉ IONIQUE, SON PROCÉDÉ DE FABRICATION ET MATIÈRE CONDUCTRICE D'IONS LE COMPRENANT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/021391    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/064678
Date de publication : 25.02.2010 Date de dépôt international : 21.08.2009
CIB :
C07F 5/02 (2006.01), H01B 1/06 (2006.01)
Déposants : NIPPOH CHEMICALS CO., LTD. [JP/JP]; CM Bldg., 3-3, Nihonbashi-muromachi 3-chome, Chuo-ku, Tokyo 1030022 (JP) (JP only).
NIPPON SHOKUBAI CO., LTD. [JP/JP]; 1-1, Koraibashi 4-chome, Chuo-ku, Osaka-shi Osaka 5410043 (JP) (Tous Sauf US).
HAGIWARA, Yuji [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
OCHI, Takanori [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
OHATA, Kazunobu [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KASAHARA, Taisuke [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TOBA, Taketo [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MIZUTA, Keiichiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KATSUYAMA, Hiromoto [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
ISHIDA, Satoshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
NISHIDA, Toshifumi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : HAGIWARA, Yuji; (JP).
OCHI, Takanori; (JP).
OHATA, Kazunobu; (JP).
KASAHARA, Taisuke; (JP).
TOBA, Taketo; (JP).
MIZUTA, Keiichiro; (JP).
KATSUYAMA, Hiromoto; (JP).
ISHIDA, Satoshi; (JP).
NISHIDA, Toshifumi; (JP)
Mandataire : UEKI, Kyuichi; Fujita-Toyobo Building 9th floor, 1-16, Dojima 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300003 (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-214504 22.08.2008 JP
2008-240014 18.09.2008 JP
2009-055643 09.03.2009 JP
2009-121465 19.05.2009 JP
2009-136719 05.06.2009 JP
2009-173577 24.07.2009 JP
2009-178166 30.07.2009 JP
2009-178167 30.07.2009 JP
Titre (EN) IONIC COMPOUND, PROCESS FOR PRODUCING SAME, AND ION-CONDUCTIVE MATERIAL COMPRISING SAME
(FR) COMPOSÉ IONIQUE, SON PROCÉDÉ DE FABRICATION ET MATIÈRE CONDUCTRICE D'IONS LE COMPRENANT
(JA) イオン性化合物及びその製造方法、並びに、これを用いたイオン伝導性材料
Abrégé : front page image
(EN)A process for producing a tetracyanoborate-containing ionic compound under milder conditions, or more efficiently, or less expensively than conventional processes; and a tetracyanoborate-containing ionic compound reduced in impurity content.  The ionic compound is a compound represented by general formula (I), in which the content of fluorine-atom-containing impurities is 3 mol% or lower per 100 mol% of the ionic compound.  The process comprises reacting starting materials comprising a cyanide and a boron compound to thereby produce an ionic compound represented by general formula (I). (In formula (I), Ktm+ represents an organic or inorganic cation, and m is an integer of 1-3.)
(FR)L'invention porte sur un procédé de fabrication d'un composé ionique contenant du tétracyanoborate dans des conditions plus douces, ou plus efficaces, ou moins coûteuses que les procédés classiques ; et sur un composé ionique contenant du tétracyanoborate avec une teneur en impuretés réduite. Le composé ionique est un composé représenté par la formule générale (I) dans lequel la teneur en impuretés contenant un atome de fluor est de 3 % en moles ou moins pour 100 % en moles du composé ionique. Le procédé comprend la réaction des matières de départ comprenant un cyanure et un composé du bore pour produire de cette façon un composé ionique représenté par la formule générale (I). (Dans la formule (I), Ktm+ représente un cation organique ou inorganique, et m est un entier de 1 à 3).
(JA) 従来法に比べて穏やかな条件で、または、収率よく、または、より安価にテトラシアノボレートを含むイオン性化合物を製造する方法、および、不純物の含有量が低減されたテトラシアノボレートを含むイオン性化合物を提供する。本発明のイオン性化合物は、下記一般式(I)で表されるイオン性化合物100mol%に対して、フッ素原子を含有する不純物の含有量が3mol%以下であり、本発明の製造方法とは、シアン化物と、ホウ素化合物とを含む出発原料を反応させることにより、下記一般式(I)で表されるイオン性化合物を製造する方法である。 (式中、Ktm+は、有機又は無機カチオンを表し、mは1~3の整数を表す)
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)