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1. (WO2010021345) COMPLEXE MÉTALLIQUE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/021345    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/064524
Date de publication : 25.02.2010 Date de dépôt international : 19.08.2009
CIB :
C07C 59/52 (2006.01), B01J 20/22 (2006.01), C07D 213/06 (2006.01), C07D 213/22 (2006.01), C07D 213/68 (2006.01), C07D 213/72 (2006.01), C07D 213/75 (2006.01), C07F 1/08 (2006.01)
Déposants : KURARAY CO., LTD. [JP/JP]; 1621, Sakazu, Kurashiki-shi, Okayama 7100801 (JP) (Tous Sauf US).
INUBUSHI, Yasutaka [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
HORI, Takashi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
OHGI, Hiroyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : INUBUSHI, Yasutaka; (JP).
HORI, Takashi; (JP).
OHGI, Hiroyuki; (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-210581 19.08.2008 JP
Titre (EN) METAL COMPLEX AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
(FR) COMPLEXE MÉTALLIQUE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 金属錯体及びその製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a metal complex that can be used as a gas absorption material with superior gas absorbing properties, a gas storage material with a high storage capacity, and a gas separation material with superior gas separation performance and high adsorption capacity. Disclosed is a metal complex, and a manufacturing method therefor, which consists of: a polycyclic aromatic dihydroxy monocarboxylic acid compound, in the structural formula of which hydroxyl groups are at the farthest locations from each other, which has carboxyl groups at the locations adjacent to the hydroxy groups, and which has 10 or more circularly conjugated π electrons, such as 3,7-dihydroxy-2-naphtoeic acid or 4,4’-dihydroxy-3-byphenylcaroxylic acid; at least one metal selected from chromium, molybdenum, tungsten, manganese, iron, ruthenium, cobalt, rhodium, nickel, palladium, copper, zinc, and cadmium; and an organic ligand, such as 4,4’-bipyridyl, capable of bidentate bonding with said metal.
(FR)La présente invention concerne un complexe métallique pouvant être utilisé comme matériau d’absorption de gaz ayant des propriétés supérieures d’absorption de gaz, comme matériau de stockage de gaz ayant une capacité élevée de stockage, et comme matériau de séparation de gaz ayant une efficacité supérieure de séparation de gaz et une capacité élevée d’adsorption. L’invention concerne un complexe métallique, et son procédé de fabrication, consistant en : un composé polycyclique aromatique d’acide dihydroxy monocarboxylique, dans la formule structurelle duquel des groupes hydroxyles se trouvent à des positions les plus éloignées les unes des autres, et qui contient au moins 10 électrons π à conjugaison circulaire, tel que l’acide 3,7-dihydroxy-2-naphtoïque ou l’acide 4,4’-dihydroxy-3-byphénylcaroxylique; au moins métal choisi parmi le chrome, le molybdène, le tungstène, le manganèse, le fer, le ruthénium, le cobalt, le rhodium, le nickel, le palladium, le cuivre, le zinc, et le cadmium; et un ligand organique, tel que 4,4’-bipyridyle, capable de liaison bidentée avec ledit métal.
(JA)【課題】優れたガス吸着特性を有するガス吸着材、吸蔵量が大きいガス吸蔵材及び優れたガス分離性能を有し、かつ吸着容量が大きいガス分離材として使用できる金属錯体を提供すること。 【解決手段】構造式内で水酸基が互いに最も遠い位置にあり、かつ水酸基の隣接位にカルボキシル基を有し、かつ環状に共役しているπ電子を10個以上有する、3,7-ジヒドロキシ-2-ナフトエ酸、4,4’-ジヒドロキシ-3-ビフェニルカルボン酸などの多環式芳香族ジヒドロキシモノカルボン酸化合物と、クロム、モリブデン、タングステン、マンガン、鉄、ルテニウム、コバルト、ロジウム、ニッケル、パラジウム、銅、亜鉛及びカドミウムから選択される少なくとも1種の金属と、該金属に二座配位可能な4,4’-ビピリジルなどの有機配位子とからなる金属錯体、並びにその製造方法によって上記課題を解決する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)