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1. (WO2010020506) MÉTHODE ET DISPOSITIF D'INSPECTION, AINSI QUE DISPOSITIF DE LITHOGRAPHIE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/020506    N° de la demande internationale :    PCT/EP2009/059362
Date de publication : 25.02.2010 Date de dépôt international : 21.07.2009
CIB :
G03F 7/20 (2006.01), G02B 6/42 (2006.01)
Déposants : ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; De Run 6501 NL-5504 DR Veldhoven (NL) (Tous Sauf US).
DEN BOEF, Arie [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
KUIPER, Johannes [NL/NL]; (NL) (US Seulement)
Inventeurs : DEN BOEF, Arie; (NL).
KUIPER, Johannes; (NL)
Mandataire : VAN DEN HOOVEN, Jan; (NL)
Données relatives à la priorité :
61/090,732 21.08.2008 US
Titre (EN) INSPECTION METHOD AND APPARATUS, AND LITHOGRAPHIC APPARATUS
(FR) MÉTHODE ET DISPOSITIF D'INSPECTION, AINSI QUE DISPOSITIF DE LITHOGRAPHIE
Abrégé : front page image
(EN)A metrology device for inspecting a substrate is provided. In an embodiment, the metrology device includes a remote radiation source device, an optical system for creating a radiation beam, and an optical fibre for transferring radiation from the optical system to the location where the metrology operations are performed. The optical system includes a control system that includes a deformable mirror, a detector that detects the position of a radiation beam, and a controller that produces a control signal for input into the deformable mirror, the control signal being based on the detected position of the radiation. In this way, the shape of the deformable mirror can be used to control the position of the radiation beam output by the optical system into the optical fibre.
(FR)L'invention concerne un dispositif de métrologie pour l'inspection d'un substrat. Selon un mode de réalisation de l'invention, le dispositif de métrologie comprend un dispositif éloigné source de rayonnement, un système optique créant un faisceau de rayonnement, ainsi qu'une fibre optique transportant le rayonnement du système optique à l'endroit où les opérations de métrologie sont effectuées. Le système optique comprend un système de commande qui comporte un miroir déformable, un détecteur détectant la position d'un faisceau de rayonnement, ainsi qu'un dispositif de commande produisant un signal de commande comme entrée pour le miroir déformable, ce signal de commande étant basé sur la position détectée du rayonnement. Ainsi, la forme du miroir déformable peut être utilisée pour commander la position du faisceau de rayonnement émis par le système optique et dirigé dans la fibre optique.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)