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1. (WO2010020481) SYSTÈME DE PROJECTION, APPAREIL LITHOGRAPHIQUE, PROCÉDÉ DE PROJECTION D'UN FAISCEAU DE RAYONNEMENT SUR UNE CIBLE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DU DISPOSITIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/020481    N° de la demande internationale :    PCT/EP2009/058923
Date de publication : 25.02.2010 Date de dépôt international : 13.07.2009
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; De Run 6501 NL-5504 DR Veldhoven (NL) (Tous Sauf US).
BUTLER, Hans [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
DE JONGH, Robertus [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
VAN DER WIJST, Marc [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
TOUSAIN, Rob [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
OUDE NIJHUIS, Marco [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
KOEVOETS, Adrianus [NL/NL]; (NL) (US Seulement)
Inventeurs : BUTLER, Hans; (NL).
DE JONGH, Robertus; (NL).
VAN DER WIJST, Marc; (NL).
TOUSAIN, Rob; (NL).
OUDE NIJHUIS, Marco; (NL).
KOEVOETS, Adrianus; (NL)
Mandataire : SLENDERS, Petrus, J.W.; De Run 6501 NL-5504 DR Veldhoven (NL)
Données relatives à la priorité :
61/089,820 18.08.2008 US
Titre (EN) PROJECTION SYSTEM, LITHOGRAPHIC APPARATUS, METHOD OF PROJECTING A BEAM OF RADIATION ONTO A TARGET AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) SYSTÈME DE PROJECTION, APPAREIL LITHOGRAPHIQUE, PROCÉDÉ DE PROJECTION D'UN FAISCEAU DE RAYONNEMENT SUR UNE CIBLE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DU DISPOSITIF
Abrégé : front page image
(EN)A projection system (PS) is provided that includes a sensor system (20) that measures at least one parameter that relates to the physical deformation of a frame (10) that supports the optical elements (11) within the projection system (PS), and a control system (30) that, based on the measurements from the sensor system (20.), determines an expected deviation of.the position of the beam of radiation projected by the projection system (PS) that is caused by the physical deformation of the frame (10).
(FR)L'invention porte sur un système de projection (PS) qui comprend un système capteur (20) qui mesure au moins un paramètre en relation avec la déformation physique d'un cadre (10) qui supporte les éléments optiques (11) à l'intérieur du système de projection (PS), et un système de commande (30) qui, en fonction des mesures provenant du système capteur (20), détermine un écart attendu de la position du faisceau de rayonnement projeté par le système de projection (PS), lequel écart est provoqué par la déformation physique du cadre (10).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)