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1. (WO2010020331) PROCÉDÉ DE MESURE DE DÉSALIGNEMENT DES MASQUES ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/020331    N° de la demande internationale :    PCT/EP2009/005422
Date de publication : 25.02.2010 Date de dépôt international : 27.07.2009
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; De Run 6501 NL-5504 DR Veldhoven (NL) (Tous Sauf US).
VAN DE KERKHOF, Marcus, Adrianus [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
VERSTAPPEN, Leonardus, Henricus, Marie [NL/NL]; (NL) (US Seulement)
Inventeurs : VAN DE KERKHOF, Marcus, Adrianus; (NL).
VERSTAPPEN, Leonardus, Henricus, Marie; (NL)
Mandataire : VAN DEN HOOVEN, Jan; ASML Netherlands B.V. De Run 6501 NL-5504 DR Veldhoven (NL)
Données relatives à la priorité :
61/090,118 19.08.2008 US
Titre (EN) A METHOD OF MEASURING OVERLAY ERROR AND A DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE MESURE DE DÉSALIGNEMENT DES MASQUES ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF
Abrégé : front page image
(EN)The overlay error of a target in a scribelane is measured. The overlay error of the required feature in the chip area may differ from this due to, for example, different responses to the exposure process. A model is used to simulate these differences and thus a more accurate measurement of the overlay error of the feature determined.
(FR)L'invention concerne la mesure du désalignement des masques d'une cible dans un chemin de découpe. Le désalignement des masques de l'élément souhaité dans la zone de la puce peut différer de celui de la cible en raison, par exemple, de différentes réactions au procédé d'exposition. Un modèle est utilisé pour simuler ces différences, permettant ainsi une mesure plus précise du désalignement des masques de l'élément déterminé.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)