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1. (WO2010020195) APPAREIL DE TRAITEMENT PAR PLASMA, DISPOSITIF DE DISTRIBUTION DE GAZ ET PROCÉDÉ DE DISTRIBUTION DE GAZ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/020195    N° de la demande internationale :    PCT/CN2009/073411
Date de publication : 25.02.2010 Date de dépôt international : 21.08.2009
CIB :
H01J 37/32 (2006.01), C23C 16/455 (2006.01), H01L 21/3065 (2006.01)
Déposants : BEIJING NMC CO., LTD. [CN/CN]; NO.1 East Jiuxianqiao Road, Chaoyang District Beijing 100016 (CN) (Tous Sauf US).
YU, Dayang [CN/CN]; (CN) (US Seulement)
Inventeurs : YU, Dayang; (CN)
Mandataire : TEE & HOWE INTELLECTUAL PROPERTY ATTORNEYS; ZHANG, Tianshu Room 718, Beijing Capital Times Square 88 Xichang'an Avenue Xicheng District Beijing 100031 (CN)
Données relatives à la priorité :
200810118805.0 22.08.2008 CN
Titre (EN) PLASMA PROCESSING APPARATUS, GAS DISTRIBUTION DEVICE AND GAS DELIVERY METHOD
(FR) APPAREIL DE TRAITEMENT PAR PLASMA, DISPOSITIF DE DISTRIBUTION DE GAZ ET PROCÉDÉ DE DISTRIBUTION DE GAZ
(ZH) 等离子体处理设备、气体分配装置以及气体输送方法
Abrégé : front page image
(EN)A gas distribution device, a plasma processing apparatus using the gas distribution device and a method used for delivering gas into a reaction chamber of the plasma processing apparatus are provided. The gas distribution device (3) comprises three layers: an upper distribution plate (31), a middle distribution plate (32) and a lower distribution plate (33). Two gas delivery paths which are separated from each other are formed among the three layers of the distribution plates. As the two gas delivery paths are fully separated, easily reacted gases can enter the reaction chamber of the plasma processing apparatus by different delivery paths and the contact of the easily reacted gases in the gas distribution device is voided, thus eliminating the possibility of reaction of the gases before entering the reaction chamber. Meanwhile, as the two gas delivery paths are staggered, two paths of gases which enter the reaction chamber through different delivery paths can be mixed sufficiently.
(FR)La présente invention concerne un dispositif de distribution de gaz, un appareil de traitement par plasma utilisant le dispositif de distribution de gaz et un procédé utilisé pour la distribution de gaz dans une chambre de réaction d’un appareil de traitement par plasma. Le dispositif de distribution de gaz (3) comporte trois couches : une plaque de distribution supérieure (31), une plaque de distribution intermédiaire (32) et une plaque de distribution inférieure (33). Deux trajets de distribution de gaz qui sont séparés l’un de l’autre sont formés entre les trois couches des plaques de distribution. Étant donné que les deux trajets de distribution de gaz sont totalement séparés, des gaz ayant réagi facilement peuvent pénétrer dans la chambre de réaction de l’appareil de traitement par plasma par différents trajets de distribution et le contact des gaz ayant réagi facilement dans le dispositif de distribution de gaz est évité, éliminant ainsi la possibilité de réaction des gaz avant leur pénétration dans l’enceinte de réaction. Par ailleurs, étant donné que les trajets de distribution de gaz sont décalés, les deux trajets de gaz qui pénètrent dans la chambre de réaction par différents trajet de distribution peuvent être suffisamment mélangés.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)