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1. (WO2010019946) SURFACES ANTIRÉFLÉCHISSANTES ET PROCÉDÉS DE FABRICATION DE CELLES-CI
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/019946    N° de la demande internationale :    PCT/US2009/054025
Date de publication : 18.02.2010 Date de dépôt international : 17.08.2009
CIB :
H01L 21/3065 (2006.01)
Déposants : OMNIVISION CDM OPTICS, INC. [US/US]; 4001 Discovery Drive Suite 130 Boulder, CO 80303 (US) (Tous Sauf US).
CARPENTER, Derrick, T. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : CARPENTER, Derrick, T.; (US)
Mandataire : LINDEMANN, John; (US)
Données relatives à la priorité :
61/089,111 15.08.2008 US
Titre (EN) ANTI-REFLECTIVE SURFACES AND METHODS FOR MAKING THE SAME
(FR) SURFACES ANTIRÉFLÉCHISSANTES ET PROCÉDÉS DE FABRICATION DE CELLES-CI
Abrégé : front page image
(EN)In an embodiment, a method of forming an anti-reflective surface includes providing conditions for a plasma, and exposing a surface of an organic-inorganic optical material to the plasma. A treated optical material formed thereby exhibits lower reflectivity relative to the material prior to the step of exposing, forming the anti-reflective surface. In an embodiment, a method of forming an anti -reflective surface includes depositing an etch mask on a surface of an optical material, providing plasma conditions for a plasma such that the plasma etches the optical material preferentially over the etch mask, and exposing the etch mask to the plasma using the plasma conditions to form a treated optical material having a plasma-affected zone. The optical material exhibits lower reflectivity relative to said optical material prior to the step of exposing, and forms the anti-reflective surface.
(FR)L'invention concerne, dans un mode de réalisation, un procédé de formation d'une surface antiréfléchissante comprenant la fourniture de conditions pour un plasma, et d'exposition d'une surface d'un matériau optique organique-inorganique au plasma. Un matériau optique traité formé ainsi présente une réflectivité plus faible par rapport au matériau avant l'étape d'exposition, en formant la surface antiréfléchissante. Dans un mode de réalisation, un procédé de formation d'une surface antiréfléchissante comprend le dépôt d'un masque de gravure sur une surface d'un matériau optique, la fourniture de conditions de plasma pour un plasma de telle sorte que le plasma grave le matériau optique de manière préférentielle sur le masque de gravure, et l'exposition du masque de gravure au plasma en utilisant les conditions de plasma pour former un matériau optique traité ayant une zone affectée par le plasma. Le matériau optique présente une réflectivité plus faible par rapport au matériau optique avant l'étape d'exposition, et forme la surface antiréfléchissante.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)