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1. (WO2010019885) ATTÉNUATEUR OPTIQUE À MODULATEUR SPATIAL DE LUMIÈRE (SLM)
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/019885    N° de la demande internationale :    PCT/US2009/053890
Date de publication : 18.02.2010 Date de dépôt international : 14.08.2009
CIB :
G02B 26/02 (2006.01)
Déposants : NISTICA, INC. [US/US]; 745 Route 202-206 Bridgewater, NJ 08807 (US) (Tous Sauf US).
WAGENER, Jefferson, L. [US/US]; (US) (US Seulement).
STRASSER, Thomas, Andrew [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : WAGENER, Jefferson, L.; (US).
STRASSER, Thomas, Andrew; (US)
Mandataire : MAYER, Stuart, H.; (US)
Données relatives à la priorité :
12/192,952 15.08.2008 US
Titre (EN) SPATIAL LIGHT MODULATOR (SLM)-BASED OPTICAL ATTENUATOR
(FR) ATTÉNUATEUR OPTIQUE À MODULATEUR SPATIAL DE LUMIÈRE (SLM)
Abrégé : front page image
(EN)A method and apparatus are provided for attenuating an optical beam. The method includes selecting a level of attenuation to be applied to the optical beam. A pattern of on-state and off-state pixels in a two dimensional spatial light modulator (SLM) is selected such that the pattern will modulate the optical beam to provide the selected level of attenuation. Finally, the optical beam is directed onto the SLM while the pixels are arranged in the selected pattern. The pattern is periodic along a first axis and symmetric along a second axis along which an intensity distribution of the optical beam extends.
(FR)L'invention concerne un procédé et un appareil pour atténuer un faisceau optique. Le procédé comprend la sélection d'un niveau d'atténuation à appliquer au faisceau optique. Un motif de pixels actifs et coupés dans un modulateur spatial de lumière bidimensionnel (SLM) est sélectionné de telle sorte que le motif va moduler le faisceau optique pour fournir le niveau d'atténuation sélectionné. Enfin, le faisceau optique est dirigé sur le SLM lorsque les pixels sont agencés dans le motif sélectionné. Le motif est périodique le long d'un premier axe et symétrique le long d'un second axe le long duquel s'étend une répartition d'intensité du faisceau optique.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)