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1. (WO2010019722) APPROCHE COMBINATOIRE AU DÉVELOPPEMENT DE FORMULATIONS DE NETTOYAGE POUR UN RETRAIT DE COLLE DANS DES APPLICATIONS DE SEMI-CONDUCTEURS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/019722    N° de la demande internationale :    PCT/US2009/053624
Date de publication : 18.02.2010 Date de dépôt international : 12.08.2009
CIB :
C11D 7/08 (2006.01), C11D 7/30 (2006.01), C11D 7/50 (2006.01), B08B 3/10 (2006.01)
Déposants : INTERMOLECULAR, INC. [US/US]; 2865 Zanker Road San Jose, CA 95134 (US) (Tous Sauf US).
KALYANKAR, Nikhil, D. [IN/US]; (US) (US Seulement).
LANG, Chi-I [US/US]; (US) (US Seulement).
FRESCO, Zachary [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : KALYANKAR, Nikhil, D.; (US).
LANG, Chi-I; (US).
FRESCO, Zachary; (US)
Mandataire : MOLLEUR, Heather, M.; (US)
Données relatives à la priorité :
61/110,443 15.01.2009 US
61/138,068 16.12.2008 US
61/088,471 13.08.2008 US
Titre (EN) COMBINATORIAL APPROACH TO THE DEVELOPMENT OF CLEANING FORMULATIONS FOR GLUE REMOVAL IN SEMICONDUCTOR APPLICATIONS
(FR) APPROCHE COMBINATOIRE AU DÉVELOPPEMENT DE FORMULATIONS DE NETTOYAGE POUR UN RETRAIT DE COLLE DANS DES APPLICATIONS DE SEMI-CONDUCTEURS
Abrégé : front page image
(EN)Embodiments of the current invention describe cleaning solutions to clean the surface of a photomask, methods of cleaning the photomask using at least one of the cleaning solutions, and combinatorial methods of formulating the cleaning solutions. The cleaning solutions are formulated to preserve the optical properties of the photomask, and in particular, of a phase-shifting photomask.
(FR)Des modes de réalisation de la présente invention portent sur des solutions de nettoyage pour nettoyer la surface d'un photomasque, sur des procédés de nettoyage du photomasque utilisant au moins l'une des solutions de nettoyage, et sur des procédés combinatoires de formulation des solutions de nettoyage. Les solutions de nettoyage sont formulées pour préserver les propriétés optiques du photomasque, et en particulier, d'un photomasque de déphasage.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)