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1. (WO2010019365) PROCÉDÉ DE RÉDUCTION DE LA DISTORSION DU CHAMP ÉLECTROMAGNÉTIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/019365    N° de la demande internationale :    PCT/US2009/051514
Date de publication : 18.02.2010 Date de dépôt international : 23.07.2009
CIB :
A61N 1/16 (2006.01)
Déposants : OPTIMER, INC. [US/US]; 5 Meco Circle Wilmington, DE 19804 (US) (Tous Sauf US).
MOORE, John, W. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : MOORE, John, W.; (US)
Mandataire : PRATT, John, S.; (US)
Données relatives à la priorité :
61/088,158 12.08.2008 US
Titre (EN) METHOD OF REDUCING THE DISTORTION OF THE ELECTROMAGNETIC FIELD
(FR) PROCÉDÉ DE RÉDUCTION DE LA DISTORSION DU CHAMP ÉLECTROMAGNÉTIQUE
Abrégé : front page image
(EN)Methods and devices are disclosed for minimizing the distortion (or "regularizing") of the electromagnetic field (EMF) associated with a subject caused by higher frequency electromagnetic fields surrounding the subject by imprinting objects placed in contact with the subject. The methods of the invention provide, inter alia, improvements in strength, stress potentiation, flexibility, stability, and sleep.
(FR)Cette invention concerne des procédés et dispositifs permettant de réduire la distorsion (ou régularisation) du champ électromagnétique associée avec un sujet et causée par des champs électromagnétiques de fréquence supérieure entourant le sujet en imprimant des objets placés en contact avec le sujet. Les procédés de l’invention concernent, notamment, des améliorations de la résistance, de la potentialisation du stress, de la flexibilité, de la stabilité et du sommeil.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)