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1. (WO2010019008) RÉACTEUR DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/019008    N° de la demande internationale :    PCT/KR2009/004529
Date de publication : 18.02.2010 Date de dépôt international : 13.08.2009
CIB :
H01L 21/205 (2006.01)
Déposants : SYNOS TECHNOLOGY, INC. [US/US]; 707 Gail Avenue Sunnyvale, CA 94086 (US) (Tous Sauf US).
LEE, Sang In [KR/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : LEE, Sang In; (US)
Mandataire : KIM, Sun-young; (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2008-0079510 13.08.2008 KR
10-2009-0074133 12.08.2009 KR
Titre (EN) VAPOR DEPOSITION REACTOR
(FR) RÉACTEUR DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR
Abrégé : front page image
(EN)A vapor deposition reactor includes a reaction module includes a first injection unit for injecting a first material onto a substrate. At least one second injection unit is placed within the first injection unit for injecting a second material onto the substrate. The substrate passes the reaction module through a relative motion between the substrate and the reaction module. The vapor deposition reactor advantageously injects a plurality of materials onto the substrate while the substrate passes the reaction module without exposing the substrate to the atmosphere in a chamber.
(FR)L'invention porte sur un réacteur de dépôt en phase vapeur comprenant un module de réaction comprenant une première unité d'injection pour l'injection d'un premier matériau sur un substrat. Au moins une seconde unité d'injection est placée à l'intérieur de la première unité d'injection pour l'injection d'un second matériau sur le substrat. Le substrat passe dans le module de réaction par un mouvement relatif entre le substrat et le module de réaction. Le réacteur de dépôt en phase vapeur injecte avantageusement une pluralité de matériaux sur le substrat alors que le substrat passe dans le module de réaction sans exposer le substrat à l'atmosphère dans une chambre.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)