WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2010019007) RÉACTEUR DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR POUR LA FORMATION DE FILM MINCE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/019007    N° de la demande internationale :    PCT/KR2009/004528
Date de publication : 18.02.2010 Date de dépôt international : 13.08.2009
CIB :
H01L 21/205 (2006.01)
Déposants : SYNOS TECHNOLOGY, INC. [US/US]; 707 Gail Avenue, Sunnyvale, CA 94086 (US) (Tous Sauf US).
LEE, Sang In [KR/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : LEE, Sang In; (US)
Mandataire : KIM, Sun-young; (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2008-0079500 13.08.2008 KR
10-2009-0074143 12.08.2009 KR
Titre (EN) VAPOR DEPOSITION REACTOR FOR FORMING THIN FILM
(FR) RÉACTEUR DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR POUR LA FORMATION DE FILM MINCE
Abrégé : front page image
(EN)A vapor deposition reactor includes a chamber filled with a first material, and at least one reaction module in the chamber. The reaction module may be configured to make a substrate pass the reaction module through a relative motion between the substrate and the reaction module. The reaction module may include an injection unit for injecting a second material to the substrate. A method for forming thin film includes positioning a substrate in a chamber, filling a first material in the chamber, moving the substrate relative to a reaction module in the chamber, and injecting a second material to the substrate while the substrate passes the reaction module.
(FR)L'invention porte sur un réacteur de dépôt en phase vapeur comprenant une chambre remplie d'un premier matériau et au moins un module de réaction dans la chambre. Le module de réaction peut être conçu pour faire passer un substrat dans le module de réaction par un mouvement relatif entre le substrat et le module de réaction. Le module de réaction peut comprendre une unité d'injection pour l'injection d'une second matériau sur le substrat. L'invention porte également sur un procédé pour la formation d'un film mince comprenant le placement d'un substrat dans une chambre, le remplissage de la chambre avec un premier matériau, le déplacement du substrat par rapport à un module de réaction dans la chambre et l'injection d'un second matériau sur le substrat alors que le substrat passe dans le module de réaction.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)