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1. (WO2010018876) DISPOSITIF DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR DE COUCHE MINCE OPTIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE COUCHE MINCE OPTIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/018876    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/064403
Date de publication : 18.02.2010 Date de dépôt international : 17.08.2009
CIB :
C23C 14/22 (2006.01)
Déposants : SHINCRON CO., LTD. [JP/JP]; 3-5, Minato Mirai 4-chome, Nishi-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 2208680 (JP) (Tous Sauf US).
NAGAE, Ekishu [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
JIANG, Yousong [CN/JP]; (JP) (US Seulement).
SHIONO, Ichiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SHIMIZU, Tadayuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
HAYASHI, Tatsuya [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
FURUKAWA, Makoto [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MURATA, Takanori [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : NAGAE, Ekishu; (JP).
JIANG, Yousong; (JP).
SHIONO, Ichiro; (JP).
SHIMIZU, Tadayuki; (JP).
HAYASHI, Tatsuya; (JP).
FURUKAWA, Makoto; (JP).
MURATA, Takanori; (JP)
Mandataire : AKIYAMA, Atsushi; (JP)
Données relatives à la priorité :
PCT/JP2008/064647 15.08.2008 JP
Titre (EN) OPTICAL THIN FILM DEPOSITION DEVICE AND OPTICAL THIN FILM FABRICATION METHOD
(FR) DISPOSITIF DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR DE COUCHE MINCE OPTIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE COUCHE MINCE OPTIQUE
(JA) 光学薄膜蒸着装置及び光学薄膜の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is an optical thin film deposition device that can produce an optical thin film with excellent optical properties, and a method for fabricating optical thin films at low cost and with excellent optical properties. Disclosed is an optical thin film deposition device that deposits a deposition substance onto a substrate (14) inside a vacuum chamber (10), and that is equipped with a domed substrate holding means (12) which is disposed inside the vacuum chamber (10) and holds the substrate (14), a rotation means which rotates the substrate holding means (12), a deposition means (34) which is disposed facing the substrate (14), an ion source (38) which irradiates ions toward the substrate (14), and a neutralizer (40) which irradiates electrons toward the substrate (14). The ion source (38) is disposed in a position in which the axis on which ions from the ion source (38) are irradiated is in the range not less than 8º and not greater than 40º relative to a line perpendicular to the surface of the substrate (14), and in which the ratio of the distance in the plumb direction between the center of the rotational axis of the substrate holding means and the center of the ion source (38) is in the range not less than 0.5 and not greater than 1.2.
(FR)L'invention propose d'une part un dispositif de dépôt en phase vapeur de couche mince optique permettant de fabriquer des couches minces optiques possédant de bonnes caractéristiques optiques, d'autre part un procédé de fabrication de couches optiques minces possédant de bonnes caractéristiques optiques et dont le coût de fabrication est faible. A l'intérieur d'une chambre à vide (10), le dispositif de dépôt en phase vapeur de couche mince optique fait déposer en phase vapeur un matériau sur un substrat (14). Il comporte un moyen de retenue (12) du substrat, en forme de dôme, qui retient le substrat (14) et est situé à l'intérieur de la chambre à vide; un moyen de rotation qui imprime une rotation au moyen de retenue (12) du substrat; d'un moyen de dépôt (34) en phase vapeur disposé en face du substrat (14); d'une source d'ions (38) qui projette par irradiation lumineuse des ions sur le substrat (14); d'un neutraliseur (40) qui projette par irradiation lumineuse des électrons sur le substrat (14). La source d'ions (38) est placée de telle sorte que: l'axe de projection des ions à partir de la source d'ions (38) forme par rapport à la perpendiculaire à la surface du substrat (14) un angle supérieur ou égal 8° et inférieur ou égal à 40°; si on rapporte le diamètre du moyen de retenue (12) du substrat à la distance existant entre le centre de l'axe de rotation du moyen de retenue du substrat et le centre de la source d'ions (38), selon une direction verticale, on obtient une valeur qui se situe dans une fourchette supérieure ou égale 0,5 et inférieure ou égale à 1,2.
(JA)【課題】良好な光学特性を有する光学薄膜を製造することができる光学薄膜蒸着装置、及び製造コストが低廉且つ良好な光学特性を有する光学薄膜の製造方法を提供する。 【解決手段】真空容器10内で基体14に蒸着物質を蒸着させる光学薄膜蒸着装置であって、真空容器10内に配設され、基体14を保持するドーム型の基体保持手段12と、基体保持手段12を回転させる回転手段と、基体14に対向して設けられた蒸着手段34と、基体14に対してイオンを照射するイオン源38と、基体14に対して電子を照射するニュートラライザ40を備える。イオン源38は、基体14の表面に対する垂線に対し、イオン源38からイオンが照射される軸線の角度が8°以上40°以下、基体保持手段12の直径に対し、基体保持手段の回転軸中心と、イオン源38の中心との鉛直方向の距離の比が、0.5以上1.2以下の範囲となる位置に配設される。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)