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1. (WO2010018786) DISPOSITIF DE COMMANDE PLASMATIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/018786    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/063994
Date de publication : 18.02.2010 Date de dépôt international : 07.08.2009
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    08.01.2010    
CIB :
H01L 21/3065 (2006.01), H05H 1/46 (2006.01)
Déposants : SUMITOMO PRECISION PRODUCTS CO., LTD. [JP/JP]; 1-10, Fuso-cho, Amagasaki-shi, Hyogo 6600891 (JP) (Tous Sauf US).
HAYAMI, Toshihiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : HAYAMI, Toshihiro; (JP)
Mandataire : OHNAKA, Minoru; Daiichijuken Nagahoribashi-ekimae bldg. 4F 3-6, Minamisemba 2-chome Chuo-ku, Osaka-shi Osaka 5420081 (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-206537 11.08.2008 JP
Titre (EN) PLASMA CONTROL DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE COMMANDE PLASMATIQUE
(JA) プラズマ制御装置
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a plasma control device which can suppress overshoot of Pf power and Vpp power supplied to a base and perform etching with a high etching rate.  The plasma control device (10) includes: a power source unit (11) which supplies Pf power to a base (23); a control unit (13) which outputs a first control signal Pf1 equivalent to a power value of the Pf power which makes the Vpp voltage applied to the base (23) to be a voltage value substantially identical to a target voltage by supply of the Pf power; and a limiter (14).  If the first control signal Pf1 outputted from the control unit (13) is not smaller than a second control signal PF2 equivalent to a first threshold value, the limiter (14) inputs the second control signal Pf2 to the power source unit (11).  Otherwise, the limiter (14) inputs the first control signal Pf1 to the power source unit (11).  The power source unit (11) outputs the Pf power corresponding to the first control signal Pf1 or the second control signal Pf2 which has been inputted.
(FR)La présente invention concerne un dispositif de commande plasmatique qui peut supprimer le dépassement de la puissance Pf et de la puissance Vpp fournies à une base et qui peut réaliser une gravure à une vitesse élevée. Ledit dispositif (10) comprend : une unité de source d’alimentation (11) qui fournit une puissance Pf à une base (23) ; une unité de commande (13) qui émet un premier signal de commande Pf1 équivalent à une valeur de puissance de la puissance Pf qui amène la tension Vpp appliquée à la base (23) à être une valeur de tension sensiblement identique à une tension cible par la fourniture de la puissance Pf ; et un limiteur (14). Si le premier signal de commande Pf1 émis par l’unité de commande (13) n’est pas inférieur à un second signal de commande PF2 équivalent à une première valeur seuil, le limiteur (14) entre le second signal de commande Pf2 dans l’unité de source d’alimentation (11). Sinon, le limiteur (14) entre le premier signal de commande Pf1 dans l’unité de source d’alimentation (11). L’unité de source d’alimentation (11) sort la puissance Pf correspondant au premier signal de commande Pf1 ou au second signal de commande Pf2 qui a été entré.
(JA) Pf電力及び基台に供給するVpp電力のオーバーシュートが抑制される共に、高いエッチングレートでエッチングすることができるプラズマ制御装置を提供する。本発明のプラズマ制御装置10は、基台23にPf電力を供給する電源部11と、Pf電力の供給によって基台23に印加されるVpp電圧を目標電圧と略同じ電圧値にするPf電力の電力値に相当する第1制御信号Pf1を出力する制御部13と、制御部13から出力された第1制御信号Pf1が第1しきい値に相当する第2制御信号Pf2以上の場合は、該第2制御信号Pf2を電源部11に入力し、制御部13から出力された第1制御信号Pf1が第2制御信号Pf2未満の場合は、第1制御信号Pf1を電源部11に入力するリミッター14とを備え、電源部11は、入力された第1制御信号Pf1又は第2制御信号Pf2に対応するPf電力を出力することを特徴とする。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)