WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2010018782) NANOPARTICULES CONTENANT DU CUIVRE ET PROCÉDÉ POUR LEUR PRODUCTION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/018782    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/063962
Date de publication : 18.02.2010 Date de dépôt international : 06.08.2009
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    11.06.2010    
CIB :
B22F 9/30 (2006.01), B22F 1/00 (2006.01), H01B 5/00 (2006.01), H01B 13/00 (2006.01), C01G 3/02 (2006.01), C07F 1/08 (2006.01)
Déposants : OSAKA MUNICIPAL THECHNICAL RESEARCH INSTITUTE [JP/JP]; 6-50, Morinomiya 1-chome, Joto-ku, Osaka-shi, Osaka 5368553 (JP) (Tous Sauf US).
DAIKEN CHEMICAL CO., LTD. [JP/JP]; 7-19, Hanaten-nishi 2-chome, Joto-ku, Osaka-shi, Osaka 5360011 (JP) (Tous Sauf US).
NAKAMOTO, Masami [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
YAMAMOTO, Mari [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KASHIWAGI, Yukiyasu [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
YOSHIDA, Yukio [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KAKIUCHI, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MATSUMURA, Shinsuke [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : NAKAMOTO, Masami; (JP).
YAMAMOTO, Mari; (JP).
KASHIWAGI, Yukiyasu; (JP).
YOSHIDA, Yukio; (JP).
KAKIUCHI, Hiroshi; (JP).
MATSUMURA, Shinsuke; (JP)
Mandataire : FUJII, Atsushi; Shinosaka-meikou-building 8F, 4-3-12, Miyahara, Yodogawa-ku, Osaka-shi, Osaka 5320003 (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-207524 11.08.2008 JP
Titre (EN) COPPER-CONTAINING NANOPARTICLE AND PROCESS FOR PRODUCING SAME
(FR) NANOPARTICULES CONTENANT DU CUIVRE ET PROCÉDÉ POUR LEUR PRODUCTION
(JA) 銅系ナノ粒子及びその製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Copper-containing nanoparticles having excellent oxidation resistance; and a process for producing copper-containing nanoparticles, which is characterized by heat-treating an organic copper compound at a temperature equal to or higher than a temperature at which the decomposition of the compound starts and lower than a temperature at which the compound is completely decomposed in a non-oxidative atmosphere in the presence of an organic material comprising a 1,2-alkanediol having 5 or more carbon atoms and/or a derivative thereof, thereby producing copper-containing nanoparticles which contain an organic component.
(FR)L'invention concerne des nanoparticules contenant du cuivre et présentant une excellente résistance à l'oxydation ainsi qu'un procédé de production de nanoparticules contenant du cuivre, caractérisé par le traitement thermique d'un composé organique de cuivre à une température égale ou supérieure à la température à laquelle la décomposition du composé commence et inférieure à la température à laquelle le composé est complètement décomposé, sous une atmosphère non oxydante et en présence d'un matériau organique qui contient un 1,2-alcanediol comptant 5 atomes de carbone ou davantage et/ou un de ses dérivés, pour ainsi produire des nanoparticules contenant du cuivre et un composant organique.
(JA)【課題】耐酸化性に優れた銅系ナノ粒子を提供する。 【解決手段】炭素数5以上の1,2-アルカンジオール及び/又はその誘導体を含む有機物の存在下、非酸化性雰囲気下で有機銅化合物を当該化合物の分解開始温度以上かつ完全分解温度未満の温度で熱処理することにより有機成分を含む銅系ナノ粒子を得ることを特徴とする銅系ナノ粒子の製造方法に係る。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)