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1. (WO2010018768) MÉTHODE DE RÉCUPÉRATION DE MÉTAUX, APPAREIL DE RÉCUPÉRATION DE MÉTAUX SYSTÈME D'ÉCHAPPEMENT, ET DISPOSITIF DE FORMATION DE FILM LES UTILISANT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/018768    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/063810
Date de publication : 18.02.2010 Date de dépôt international : 04.08.2009
CIB :
B01D 53/64 (2006.01), B01D 53/62 (2006.01), C23C 16/44 (2006.01), F27D 17/00 (2006.01), H01L 21/28 (2006.01), H01L 21/285 (2006.01), H01L 21/3065 (2006.01)
Déposants : TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-1, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1076325 (JP) (Tous Sauf US).
HARA Masamichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
GOMI Atsushi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
HATANO Tatsuo [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : HARA Masamichi; (JP).
GOMI Atsushi; (JP).
HATANO Tatsuo; (JP)
Mandataire : YOSHITAKE Kenji; (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-206474 09.08.2008 JP
Titre (EN) METAL RECOVERY METHOD, METAL RECOVERY APPARATUS, EXHAUST SYSTEM, AND FILM FORMING DEVICE USING SAME
(FR) MÉTHODE DE RÉCUPÉRATION DE MÉTAUX, APPAREIL DE RÉCUPÉRATION DE MÉTAUX SYSTÈME D'ÉCHAPPEMENT, ET DISPOSITIF DE FORMATION DE FILM LES UTILISANT
(JA) 金属回収方法、金属回収装置、排気系及びこれを用いた成膜装置
Abrégé : front page image
(EN)A metal recovery apparatus (66) detoxifies exhaust gas by recovering metal components from the exhaust gas, which is discharged from a processing vessel (10) wherein a thin film is formed on the surface of processed material using a starting material gas composed of an organic metal compound starting material.  The metal recovery apparatus is provided with a collection unit (80) that heats the exhaust gas and thermally decomposes unreacted starting material gas included in the exhaust gas, and that has a collection member to which metal components included in the starting material gas adhere, and a detoxifying unit (82) that has a catalyst (100) that oxidizes and detoxifies harmful gas components included in the exhaust gas that has passed through the collection unit.
(FR)L'invention porte sur un appareil de récupération de métaux (66) détoxifiant les gaz d'échappement provenant d'une cuve de traitement (10) en y récupérant des composants métalliques, un film mince étant formé à la surface du matériau traité en utilisant un matériau gazeux de départ d'un composé organo-métallique. L'appareil de récupération de métaux comporte: une unité de recueil (80) qui chauffe les gaz d'échappement et les décompose thermiquement les gaz du matériau de départ n'ayant pas réagi et présents dans les gaz d'échappement; un élément de recueil auquel adhèrent les composants métalliques présents dans le gaz de matériau de départ; et une unité détoxification (82) munie d'un un catalyseur (100) qui oxyde et détoxifie les composants gazeux nuisibles présents dans les gaz d'échappement passés par l'unité de recueil.
(JA) 金属回収装置(66)は、有機金属化合物の原料よりなる原料ガスを用いて被処理体の表面に薄膜を形成する処理容器(10)から排出される排気ガス中から、金属成分を回収して排気ガスを除害する。金属回収装置は、前記排気ガスを加熱して排気ガス中に含まれる未反応の原料ガスを熱分解させて原料ガス中に含まれている金属成分を付着させる捕集部材を有する捕集ユニット(80)と、捕集ユニットを通過した排気ガス中に含まれる有害なガス成分を酸化して除害する触媒(100)を有する除害ユニット(82)と、を備える。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)