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1. (WO2010017892) SOURCE DE RAYONNEMENT, APPAREIL LITHOGRAPHIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/017892    N° de la demande internationale :    PCT/EP2009/005509
Date de publication : 18.02.2010 Date de dépôt international : 30.07.2009
CIB :
G03F 7/20 (2006.01), H05G 2/00 (2006.01)
Déposants : ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; De Run 6501 NL-5504 DR Veldhoven (NL) (Tous Sauf US).
BANINE, Vadim, Yevgenyevich [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
LOOPSTRA, Erik, Roelof [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
MOORS, Johannes, Hubertus, Josephina [NL/NL]; (NL) (US Seulement)
Inventeurs : BANINE, Vadim, Yevgenyevich; (NL).
LOOPSTRA, Erik, Roelof; (NL).
MOORS, Johannes, Hubertus, Josephina; (NL)
Mandataire : SLENDERS, P.J.W.; ASML Netherlands B.V. De Run 6501 NL-5504 DR Veldhoven (NL)
Données relatives à la priorité :
61/136,144 14.08.2008 US
Titre (EN) RADIATION SOURCE, LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) SOURCE DE RAYONNEMENT, APPAREIL LITHOGRAPHIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
Abrégé : front page image
(EN)A lithographic apparatus (1) includes a radiation source (SO) configured to produce extreme ultraviolet radiation, the radiation source (SO) including a chamber (210) in which a plasma (225) is generated; a collector mirror (270) configured to reflect radiation emitted by the plasma (225); and a debris mitigation system (230) including a gas supply system (235) configured to supply a first gas flow (240) toward the plasma, the first gas flow (240) being selected to thermalize debris generated by the plasma (225), and a plurality of gas manifolds (247) arranged at a location proximate the collector mirror (270), the gas manifolds configured to supply a second gas flow (250) in the chamber (210), the second gas flow (250) being directed toward the plasma (225) to prevent thermalized debris from depositing on the collector mirror (270).
(FR)L'invention porte sur un appareil lithographique (1) qui comprend une source de rayonnement (SO) conçue pour produire un rayonnement ultraviolet extrême, la source de rayonnement (SO) comprenant une chambre (210) dans laquelle un plasma (225) est généré; un miroir collecteur (270) conçu pour réfléchir un rayonnement émis par le plasma (225); et un système de limitation de débris (230) comprenant un système d'alimentation en gaz (235) conçu pour fournir un premier écoulement de gaz (240) vers le plasma, le premier écoulement de gaz (240) étant sélectionné pour amener un débris généré par le plasma (225) à un état thermique, et une pluralité de collecteurs de gaz (247) agencés à un emplacement proche du miroir collecteur (270), les collecteurs de gaz étant conçus pour introduire un second écoulement de gaz (250) dans la chambre (210), le second écoulement de gaz (250) étant dirigé vers le plasma (225) pour empêcher des débris amenés à un état thermique de se déposer sur le miroir collecteur (270).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)