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1. (WO2010016601) SUPPORT MAGNÉTIQUE, DÉVELOPPEUR À DEUX COMPOSANTS ET PROCÉDÉ DE FORMATION D'IMAGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/016601    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/064087
Date de publication : 11.02.2010 Date de dépôt international : 04.08.2009
CIB :
G03G 9/113 (2006.01), G03G 9/08 (2006.01)
Déposants : CANON KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 30-2, Shimomaruko 3-chome, Ohta-ku, Tokyo 1468501 (JP) (Tous Sauf US).
FUJIKAWA, Hiroyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
ISHIGAMI, Koh [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
NAKAMURA, Kunihiko [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KOMATSU, Nozomu [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
BABA, Yoshinobu [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
YAMAMOTO, Takeshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
HARAGUCHI, Manami [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KUBO, Kenta [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : FUJIKAWA, Hiroyuki; (JP).
ISHIGAMI, Koh; (JP).
NAKAMURA, Kunihiko; (JP).
KOMATSU, Nozomu; (JP).
BABA, Yoshinobu; (JP).
YAMAMOTO, Takeshi; (JP).
HARAGUCHI, Manami; (JP).
KUBO, Kenta; (JP)
Mandataire : OKABE, Masao; (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-200643 04.08.2008 JP
Titre (EN) MAGNETIC CARRIER, TWO-COMPONENT DEVELOPER, AND IMAGE-FORMING METHOD
(FR) SUPPORT MAGNÉTIQUE, DÉVELOPPEUR À DEUX COMPOSANTS ET PROCÉDÉ DE FORMATION D'IMAGE
(JA) 磁性キャリア、二成分系現像剤及び画像形成方法
Abrégé : front page image
(EN)A magnetic carrier having magnetic carrier particles containing at least magnetic core particles and a resin.  The resistivity of the magnetic carrier at the electric field intensity of 1.0 × 103 V/cm as determined by measuring the dynamic impedance is not less than 1.0 × 106 Ω·cm but not more than 1.0 × 1010 Ω·cm.  The electric field intensity E(109) at which the resistivity of the magnetic carrier is 1.0 × 109 Ω·cm is not more than 2.0 × 104 V/cm.  The electric field intensity E(108) at which the resistivity of the magnetic carrier is 1.0 × 108 Ω·cm is not less than 5.0 × 103 V/cm but not more than 2.8 × 104 V/cm.  The ratio between the electric field intensity E(108) and the electric field intensity E(109) (E(108)/ E(109)) is not less than 1.0 but not more than 5.0.
(FR)L'invention porte sur un support magnétique ayant des particules de support magnétique contenant au moins des particules de noyau magnétique et une résine. La résistivité du support magnétique à l'intensité de champ électrique de 1,0 × 103 V/cm telle que déterminée par la mesure de l'impédance dynamique n'est pas inférieure à 1,0 × 106 Ω•cm mais pas supérieure à 1,0 × 1010 Ω•cm. L'intensité de champ électrique E(109) à laquelle la résistivité du support magnétique est de 1,0 × 109 Ω•cm n'est pas supérieure à 2,0 × 104 V/cm. L'intensité de champ électrique E(108) à laquelle la résistivité du support magnétique est de 1,0 × 108 Ω•cm n'est pas inférieure à 5,0 × 103 V/cm mais pas supérieure à 2,8 × 104 V/cm. Le rapport entre l'intensité de champ électrique E(108) et l'intensité de champ électrique E(109) (E(108)/E(109)) n'est pas inférieur à 1,0 mais pas supérieur à 5,0.
(JA)磁性コア粒子と樹脂とを少なくとも含有する磁性キャリア粒子を有する磁性キャリアであって、動的イ ンピーダンスを測定することにより得られる、電界強度1.0×103V/cmにおける該磁性キャリア の抵抗率が1.0×106Ω・cm以上1.0×1010Ω・cm以下であり、該磁性キャリアの抵抗率が 1.0×109Ω・cmになる電界強度E(109)が2.0×104V/cm以下であり、該磁性キャリ アの抵抗率が1.0×108Ω・cmになる電界強度E(108)が5.0×103V/cm以上2.8× 104V/cm以下であり、該電界強度E(108)と該電界強度E(109)の比(E(108)/E( 109))が1.0以上5.0以下である磁性キャリア。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)