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1. (WO2010016417) APPAREIL DE TRAITEMENT AU PLASMA
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/016417    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/063522
Date de publication : 11.02.2010 Date de dépôt international : 29.07.2009
CIB :
H05H 1/46 (2006.01), C23C 16/511 (2006.01), H01L 21/3065 (2006.01)
Déposants : TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-1 Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1076325 (JP) (Tous Sauf US).
ISHIBASHI Kiyotaka [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : ISHIBASHI Kiyotaka; (JP)
Mandataire : KIMURA Mitsuru; (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-205889 08.08.2008 JP
Titre (EN) PLASMA PROCESSING APPARATUS
(FR) APPAREIL DE TRAITEMENT AU PLASMA
(JA) プラズマ処理装置
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a plasma processing apparatus which can generate uniform plasma with excellent repeatability under various process conditions. A plasma processing apparatus (1) is provided with: a waveguide tube (5) which transmits microwaves; an antenna (4) which radiates microwaves which have been radiated from a microwave source through the microwave tube (5); and a top plate (3) which propagates microwaves radiated from the antenna (4) and passes the microwaves into the plasma processing container (1).  Furthermore, the plasma processing apparatus (1) is provided with a screw feed mechanism (20) which moves the waveguide tube (5) so as to relatively change the position of the waveguide tube (5) to the antenna (4).
(FR)L'invention porte sur un appareil de traitement au plasma qui peut générer un plasma uniforme avec une excellente répétabilité dans diverses conditions de traitement. Un appareil de traitement au plasma (1) comporte : un tube de guide d'ondes (5) qui transmet des micro-ondes ; une antenne (4) qui rayonne des micro-ondes qui ont été rayonnées à partir d'une source de micro-ondes à travers le tube micro-onde (5) ; et une plaque supérieure (3) qui propage des micro-ondes rayonnées à partir de l'antenne (4) et passe les micro-ondes dans le récipient de traitement au plasma (1). De plus, l'appareil de traitement au plasma (1) comporte un mécanisme d'avance par vis (20) qui déplace le tube de guide d'ondes (5) de façon à changer relativement la position du tube de guide d'ondes (5) par rapport à l'antenne (4).
(JA)多様なプロセス条件において、均一で、かつ再現性の良好なプラズマを発生させることのできるプラズマ処理装置を提供する。 プラズマ処理装置(1)は、マイクロ波を伝送する導波管(5)と、マイクロ波源から導波管(5)を介して、マイクロ波を放射するアンテナ(4)と、アンテナ(4)から放射されるマイクロ波を伝播し、プラズマ処理容器(1)の内部に透過させる天板(3)とを備えている。プラズマ処理装置(1)は、さらに、アンテナ(4)に対して導波管(5)の位置が相対的に変化するように当該導波管(5)を移動させるねじ送り機構(20)を備えている。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)