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1. (WO2010016242) COMPOSANT OPTIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE COMPOSANT OPTIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/016242    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/003721
Date de publication : 11.02.2010 Date de dépôt international : 04.08.2009
CIB :
G02B 1/11 (2006.01), C09K 3/18 (2006.01), G02B 1/10 (2006.01), G02C 7/00 (2006.01)
Déposants : NIKON-ESSILOR CO., LTD. [JP/JP]; 10-8, Ryogoku 2-chome, Sumida-ku, Tokyo 1300026 (JP) (Tous Sauf US).
TOMODA, Masaoki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : TOMODA, Masaoki; (JP)
Mandataire : SHIGA, Masatake; (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-200737 04.08.2008 JP
Titre (EN) OPTICAL COMPONENT AND OPTICAL COMPONENT MANUFACTURING METHOD
(FR) COMPOSANT OPTIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE COMPOSANT OPTIQUE
(JA) 光学部品及び光学部品の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)An optical component (1) is provided with a plastic base material (2), and a reflection preventing film (3) arranged on the base material (2).  The reflection preventing film (3) has a multilayer constitution which has, on the side of the base material (2), a high refractive index layer (7) having a multilayer structure wherein a plurality of layers of a high refractive index inorganic material and those of a low refractive index inorganic material are alternately laminated.  The multilayer constitution also has a low refractive index layer (8) composed of a low refractive index inorganic material having a refractive index lower than that of the high refractive index layer (7) on the high refractive index layer (7).  The total film thickness of the reflection preventing film (3) is 170 nm or more but not more than 200 nm.  The ratio of the thickness of the layer composed of the low refractive index inorganic material in the reflection preventing film (3) to the total film thickness is 70% or more but not more than 80%.
(FR)L'invention porte sur un composant optique (1) qui comprend un matériau de base en matière plastique (2) sur lequel est disposé un film antireflet (3). Le film antireflet (3) est constitué de plusieurs couches dont, sur le côté matériau de base (2), une couche à indice de réfraction élevé (7) à structure multicouche dans laquelle une pluralité de couches de matériau inorganique à indice de réfraction élevé et de matériau inorganique à indice de réfraction faible sont stratifiées de façon alternée. Le film antireflet (3) comporte également une couche à indice de réfraction faible (8) composée d'un matériau inorganique à indice de réfraction faible inférieur à celui de la couche à indice de réfraction élevé (7) de la couche à indice de réfraction élevé (7). L'épaisseur totale du film antireflet (3) est comprise entre 170 nm et 200 nm. Le rapport de l'épaisseur de la couche composée du matériau inorganique à indice de réfraction faible du film antireflet (3) à l'épaisseur totale du film est compris entre 70 % et 80 %.
(JA) 光学部品(1)は、プラスチック製の基材(2)と、基材(2)上に配設された反射防止膜(3)とを備える。反射防止膜(3)は、基材(2)側に、高屈折率無機材料と低屈折率無機材料とが交互に複数積層されてなる多層構造の高屈折率層(7)を有し、高屈折率層(7)上に、この高屈折率層(7)より低い屈折率の低屈折率無機材料からなる低屈折率層(8)を有した複層構成となっている。反射防止膜(3)の全膜厚は170nm以上200nm以下である。この全膜厚に対する反射防止膜(3)中の低屈折率無機材料からなる層の厚さの割合は、70%以上80%以下である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)