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1. (WO2010016116) PROCÉDÉ DE FABRICATION D’HYDROGÈNE GAZEUX À PARTIR D’UN GAZ MIXTE CONTENANT UN HALOGÉNURE D’HYDROGÈNE, DE L’HYDROGÈNE ET UN HALOGÉNURE DE SILICIUM, PROCÉDÉ DE FABRICATION D’UN COMPOSÉ DE SILICIUM UTILISANT L’HYDROGÈNE GAZEUX, ET INSTALLATION POUR LES PROCÉDÉS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/016116    N° de la demande internationale :    PCT/JP2008/064118
Date de publication : 11.02.2010 Date de dépôt international : 06.08.2008
CIB :
C01B 3/52 (2006.01), C01B 33/107 (2006.01)
Déposants : DENKI KAGAKU KOGYO KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 1-1, Nihonbashi-Muromachi 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1038338 (JP) (Tous Sauf US).
YUBUNE, Kazuyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KOBAYASHI, Yoshihisa [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
YAMAZAKI, Masaki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
WAKUDA, Yusuke [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : YUBUNE, Kazuyuki; (JP).
KOBAYASHI, Yoshihisa; (JP).
YAMAZAKI, Masaki; (JP).
WAKUDA, Yusuke; (JP)
Mandataire : SONODA, Yoshitaka; SONODA & KOBAYASHI, 53 rd Floor, Shinjuku Mitsui, Building, 1-1, Nishi-Shinjuku, 2-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1630453 (JP)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) PROCESS FOR PRODUCING HYDROGEN GAS FROM MIXED GAS CONTAINING HYDROGEN HALIDE, HYDROGEN AND SILICON HALIDE, PROCESS FOR PRODUCING SILICON COMPOUND WITH USE OF THE HYDROGEN GAS, AND PLANT FOR THE PROCESSES
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D’HYDROGÈNE GAZEUX À PARTIR D’UN GAZ MIXTE CONTENANT UN HALOGÉNURE D’HYDROGÈNE, DE L’HYDROGÈNE ET UN HALOGÉNURE DE SILICIUM, PROCÉDÉ DE FABRICATION D’UN COMPOSÉ DE SILICIUM UTILISANT L’HYDROGÈNE GAZEUX, ET INSTALLATION POUR LES PROCÉDÉS
(JA) ハロゲン化水素、水素およびハロゲン化ケイ素を含む混合ガスから水素ガスを生産する方法、その水素ガスを用いたケイ素化合物の生産方法、およびその方法のためのプラント
Abrégé : front page image
(EN)A plant (100) for producing hydrogen gas through separation of hydrogen from a mixed gas containing hydrogen chloride, hydrogen and chlorosilane. The plant (100) comprises a washing column (102) adapted to bring the mixed gas into contact with a hydrochloric acid silica slurry and a hydrochloric acid scrubber (108) adapted to bring the purified gas obtained from the washing column (102) into contact with an aqueous solution of hydrochloric acid.
(FR)L’invention concerne une installation (100) pour la fabrication d’hydrogène gazeux par séparation d’hydrogène à partir d’un gaz mixte contenant du chlorure d’hydrogène, de l’hydrogène et du chlorosilane. L’installation (100) comprend une colonne de lavage (102) conçue pour mettre le gaz mixte en contact avec une pâte de silice et d’acide chlorhydrique, et un épurateur à l’acide chlorhydrique (108) conçu pour mettre le gaz purifié issu de la colonne de lavage (102) en contact avec une solution aqueuse d’acide chlorhydrique.
(JA) 塩化水素、水素およびクロルシランを含む混合ガスから水素を分離して、水素ガスを生産するプラント100として、混合ガスおよび塩酸シリカスラリーを接触させる洗浄塔102と、洗浄塔102から得られる精製ガスおよび塩酸水溶液を接触させる塩酸スクラバー108と、を備えるプラント100を提供する(選択図 図1)。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)