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1. (WO2010015333) GABARIT ET PROCÉDÉ SERVANT À FABRIQUER UN GABARIT DE LITHOGRAPHIE POSSÉDANT UN RAPPORT DE FORME ÉLEVÉ ET UTILISATION DU GABARIT POUR PERFORER UN SUBSTRAT À LA NANOÉCHELLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/015333    N° de la demande internationale :    PCT/EP2009/005340
Date de publication : 11.02.2010 Date de dépôt international : 23.07.2009
CIB :
G03F 7/00 (2006.01)
Déposants : SMOLTEK AB [SE/SE]; Stena Center 1D S-412 92 Göteborg (SE) (Tous Sauf US).
MUHAMMAD, Amin Saleem [--/SE]; (SE) (US Seulement).
BRUD, David [SE/SE]; (SE) (US Seulement).
BERG, Jonas [SE/SE]; (SE) (US Seulement).
KABIR, Mohammad, Shafiqul [--/SE]; (SE) (US Seulement).
DESMARIS, Vincent [FR/SE]; (SE) (US Seulement)
Inventeurs : MUHAMMAD, Amin Saleem; (SE).
BRUD, David; (SE).
BERG, Jonas; (SE).
KABIR, Mohammad, Shafiqul; (SE).
DESMARIS, Vincent; (SE)
Mandataire : AWAPATENT AB; Box 11394 S-404 28 Göteborg (SE)
Données relatives à la priorité :
0801770-9 05.08.2008 SE
Titre (EN) HIGH ASPECT RATIO TEMPLATE FOR LITHOGRAPHY, METHOD OF MAKING THE SAME TEMPLATE AND USE OF THE TEMPLATE FOR PERFORATING A SUBSTRATE AT NANOSCALE
(FR) GABARIT ET PROCÉDÉ SERVANT À FABRIQUER UN GABARIT DE LITHOGRAPHIE POSSÉDANT UN RAPPORT DE FORME ÉLEVÉ ET UTILISATION DU GABARIT POUR PERFORER UN SUBSTRAT À LA NANOÉCHELLE
Abrégé : front page image
(EN)Template and method of making high aspect ratio template, stamp, and imprinting at nanoscale using nanostructures for the purpose of lithography, and to the use of the template to create perforations on materials and products.
(FR)Gabarit et procédé de fabrication d'un gabarit possédant un rapport de forme élevé, d'empreinte à la nanoéchelle au moyen de nanostructures à des fins lithographiques, et utilisation du gabarit afin de créer des perforations sur des matériaux et des produits.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)