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1. (WO2010014433) RÉACTEUR PLASMA À COUPLAGE INDUCTIF ASSISTÉ PAR CHAMP
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/014433    N° de la demande internationale :    PCT/US2009/050916
Date de publication : 04.02.2010 Date de dépôt international : 17.07.2009
CIB :
H05H 1/34 (2006.01), H01L 21/3065 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, CA 95054 (US) (Tous Sauf US).
TODOROW, Valentin, N. [US/US]; (US) (US Seulement).
BANNA, Samer [US/US]; (US) (US Seulement).
RAMASWAMY, Kartik [US/US]; (US) (US Seulement).
WILLWERTH, Michael, D. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : TODOROW, Valentin, N.; (US).
BANNA, Samer; (US).
RAMASWAMY, Kartik; (US).
WILLWERTH, Michael, D.; (US)
Mandataire : TABOADA, Alan; Moser IP Law Group 1030 Broad Street Suite 203 Shrewsbury, NJ 07702 (US)
Données relatives à la priorité :
12/182,342 30.07.2008 US
Titre (EN) FIELD ENHANCED INDUCTIVELY COUPLED PLASMA (FE-ICP) REACTOR
(FR) RÉACTEUR PLASMA À COUPLAGE INDUCTIF ASSISTÉ PAR CHAMP
Abrégé : front page image
(EN)Embodiments of field enhanced inductively coupled plasma reactors and methods of use of same are provided herein. In some embodiments, a field enhanced inductively coupled plasma processing system may include a process chamber having a dielectric lid and a plasma source assembly disposed above the dielectric lid. The plasma source assembly includes one or more coils configured to inductively couple RF energy into the process chamber to form and maintain a plasma therein, one or more electrodes configured to capacitively couple RF energy into the process chamber to form the plasma therein, wherein the one or more electrodes are electrically coupled to one of the one or more coils, and an RF generator coupled to the one or more inductive coils and the one or more electrodes. In some embodiments, a heater element may be disposed between the dielectric lid and the plasma source assembly,
(FR)Selon des modes de réalisation, la présente invention concerne des réacteurs plasma à couplage inductif et leurs procédés d'utilisation. Selon certains modes de réalisation, un système de traitement par plasma à couplage inductif activé par champ peut comporter une chambre de traitement comprenant un couvercle diélectrique et un ensemble de source plasma disposé au-dessus du couvercle diélectrique. L'ensemble de source plasma comporte une ou des bobines configurées pour le couplage inductif d'énergie RF dans l'enceinte de traitement pour y former et maintenir un plasma, une ou des électrodes configurées pour le couplage capacitif d'énergie RF dans l'enceinte de traitement pour y former le plasma, l'une ou les électrodes étant couplée(s) électriquement à l'une ou aux bobine(s), et un générateur RF étant couplé à l'une ou aux bobine(s) d'induction et à l'une ou aux électrodes. Selon certains modes de réalisation, un élément chauffant peut être disposé entre le couvercle diélectrique et l'ensemble de source plasma.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)