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1. (WO2010014399) SCHÉMA DE PROCÉDÉ DE NETTOYAGE AU PLASMA D'UNE CHAMBRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/014399    N° de la demande internationale :    PCT/US2009/050686
Date de publication : 04.02.2010 Date de dépôt international : 15.07.2009
CIB :
H01L 21/3065 (2006.01), H01L 21/304 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, CA 95054 (US) (Tous Sauf US).
HSIEH, Chang-Lin [US/US]; (US) (US Seulement).
CHING, Chi-Hong [US/US]; (US) (US Seulement).
KOJIRI, Hidehiro [JP/US]; (US) (US Seulement).
TSUI, Joshua [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : HSIEH, Chang-Lin; (US).
CHING, Chi-Hong; (US).
KOJIRI, Hidehiro; (US).
TSUI, Joshua; (US)
Mandataire : VINCENT, Lester, J.; Blakely, Sokoloff, Taylor & Zafman LLP 1279 Oakmead Parkway Sunnyvale, CA 94085-4040 (US)
Données relatives à la priorité :
12/181,535 29.07.2008 US
Titre (EN) CHAMBER PLASMA-CLEANING PROCESS SCHEME
(FR) SCHÉMA DE PROCÉDÉ DE NETTOYAGE AU PLASMA D'UNE CHAMBRE
Abrégé : front page image
(EN)A method for plasma-cleaning a chamber in a process tool is described. A substrate is placed on a chuck in a process chamber having a set of contaminants therein. A plasma process is executed in the process chamber to transfer the set of contaminants to the top surface of the substrate. The substrate, having the set of contaminants thereon, is removed from the process chamber.
(FR)L'invention concerne un procédé permettant de nettoyer au plasma une chambre dans un outil de traitement. Un substrat est placé sur un mandrin dans une chambre de traitement dans laquelle se trouve une série de substances contaminantes. Un traitement au plasma est effectué dans la chambre de traitement pour transférer la série de substances contaminantes sur la surface supérieure du substrat. Le substrat, sur lequel est déposée la série de substances contaminante, est retiré de la chambre de traitement.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)