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1. (WO2010014384) SYSTÈME DE TRAITEMENT À HAUT DÉBIT POUR TRAITEMENT CHIMIQUE ET TRAITEMENT THERMIQUE ET PROCÉDÉ DE MISE EN ŒUVRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/014384    N° de la demande internationale :    PCT/US2009/050401
Date de publication : 04.02.2010 Date de dépôt international : 13.07.2009
CIB :
B44C 1/22 (2006.01)
Déposants : TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; Akasaka Biz Tower 3-1 Akasaka 5-chome Minato-ku, Tokyo 107-6325 (JP) (Tous Sauf US).
WALLACE, Jay, R. [US/US]; (US) (US Seulement).
HAMELIN, Thomas [US/US]; (US) (US Seulement).
TAKAHASHI, Hiroyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
LAFLAMME, Arthur, H. [US/US]; (US) (US Seulement).
WHYMAN, Gregory, R. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : WALLACE, Jay, R.; (US).
HAMELIN, Thomas; (US).
TAKAHASHI, Hiroyuki; (JP).
LAFLAMME, Arthur, H.; (US).
WHYMAN, Gregory, R.; (US)
Mandataire : STRANG, Eric; (US)
Données relatives à la priorité :
12/183,650 31.07.2008 US
12/183,763 31.07.2008 US
12/183,828 31.07.2008 US
Titre (EN) HIGH THROUGHPUT PROCESSING SYSTEM FOR CHEMICAL TREATMENT AND THERMAL TREATMENT AND METHOD OF OPERATING
(FR) SYSTÈME DE TRAITEMENT À HAUT DÉBIT POUR TRAITEMENT CHIMIQUE ET TRAITEMENT THERMIQUE ET PROCÉDÉ DE MISE EN ŒUVRE
Abrégé : front page image
(EN)A high throughput processing system having a chemical treatment system and a thermal treatment system for processing a plurality of substrates is described. The chemical treatment system is configured to chemically treat a plurality of substrates in a dry, non-plasma environment. The thermal treatment system is configured to thermally treat a plurality of substrates chemically treated in the chemical treatment system.
(FR)L’invention concerne un système de traitement à haut débit présentant un système de traitement chimique et un système de traitement thermique pour le traitement d’une pluralité de substrats. Le système de traitement chimique est configuré de manière à traiter chimiquement une pluralité de substrats dans un environnement non-plasma, sec. Le système de traitement thermique est configuré de manière à traiter thermiquement une pluralité de substrats traités chimiquement dans le système de traitement chimique.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)