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1. (WO2010014065) DISPOSITIF À MIROIR
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/014065    N° de la demande internationale :    PCT/US2008/009278
Date de publication : 04.02.2010 Date de dépôt international : 01.08.2008
CIB :
G02B 26/08 (2006.01)
Déposants : OLYMPUS CORPORATION [JP/JP]; Shinjukumonolith, 3-1 Nishi-shinjuku 2-chome Shinjuku-ku, Tokyo, 163-0914 (JP) (Tous Sauf US).
SILICON QUEST KABUSHIKI-KAISHA [JP/JP]; 1588-128 Koshigoe, Kamakura-shi, Kanagawa-ken, 248-0033 (JP) (Tous Sauf US).
ISHII, Fusao [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : ISHII, Fusao; (US).
MAEDA, Yoshihiro; (JP).
ICHIKAWA, Hirotoshi; (JP).
SUGIMOTO, Naoya; (JP)
Mandataire : LIN, Bo-in; 13445 Mandoli Drive, Los Altos Hills, CA 94022 (US)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) MIRROR DEVICE
(FR) DISPOSITIF À MIROIR
Abrégé : front page image
(EN)A mirror device comprises: an electrode which is covered with a protective film made of a material containing a semiconductor material and is placed on a substrate; a mirror placed above the electrode; and an electrically conductive hinge placed between the mirror and the electrode, wherein an opening part is formed in a part of the protective film, and the hinge penetrates the protective film in the opening part thereof.
(FR)L'invention porte sur un dispositif à miroir qui comprend : une électrode qui est recouverte d'un film protecteur fait d'un matériau contenant un matériau semi-conducteur et est placée sur un substrat; un miroir placé au-dessus de l'électrode; et une charnière conductrice de l'électricité placée entre le miroir et l'électrode, une partie d'ouverture étant formée dans une partie du film protecteur, et la charnière pénétrant dans le film protecteur dans la partie d'ouverture de celui-ci.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)