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1. (WO2010013995) DISPOSITIF DE LAVAGE D'UNE PIÈCE À USINER
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/013995    N° de la demande internationale :    PCT/MY2009/000107
Date de publication : 04.02.2010 Date de dépôt international : 31.07.2009
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    31.05.2010    
CIB :
B08B 3/04 (2006.01)
Déposants : INVENPRO (M) SDN. BHD. [MY/MY]; No. 43, Jalan Taming 5 Taman Taming Jaya 43300 Balakong Selangor Darul Ehsan (MY) (Tous Sauf US).
NG, Kae, Jeng [MY/MY]; (MY) (US Seulement).
LIANG, Kien, Hui [MY/MY]; (MY) (US Seulement).
LIANG, Kien, Yew [MY/MY]; (MY) (US Seulement)
Inventeurs : NG, Kae, Jeng; (MY).
LIANG, Kien, Hui; (MY).
LIANG, Kien, Yew; (MY)
Mandataire : CHUAH, Jern, Ern; Advanz Fidelis Sdn. Bhd. Suite 609, Block D, Phileo Damansara 1 No. 9, Jalan 16/11 46350 Petaling Jaya Selangor Darul Ehsan (MY)
Données relatives à la priorité :
PI 20082877 31.07.2008 MY
Titre (EN) AN APPARATUS FOR WASHING A WORKPIECE
(FR) DISPOSITIF DE LAVAGE D'UNE PIÈCE À USINER
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to an apparatus (100) for washing a workpiece such as wafers, PC boards, hybrid circuits, precision mechanical or electromechanical components, optical instruments, medical devices or the like. Preferably, the apparatus (100) of the present invention can be used for washing disk drive components that have a substantially flat disc shape. The simple and easy to maintain structure of the present apparatus provides an uni-directional flow of washing liquid within the apparatus to remove contaminants from the surface of a workpiece in a submerged condition under streams of the washing liquid. The uni- directional flow of the washing liquid is achieved via a means which pumping a flow of washing liquid into the inlet and simultaneously extracting a flow of washing liquid out of the outlet of the apparatus (100). The uni-directional flow of the washing liquid is capable of preventing the removed contaminants from re-depositing onto the surface of the workpiece that has been cleaned.
(FR)L'invention concerne un dispositif (100) servant à laver une pièce à usiner tel que des tranches, des cartes de circuit imprimé, des circuits hybrides, des composants mécaniques ou électromécaniques de précision, des instruments optiques, des dispositifs médicaux ou analogue. De préférence, le dispositif (100) de l'invention peut être utilisé pour laver des composants de lecteur de disque en forme de disque sensiblement plat. La structure simple et facile à entretenir de ce dispositif produit un flux unidirectionnel de liquide de lavage à l'intérieur du dispositif afin d'éliminer les contaminants de la surface d'une pièce à usiner immergée sous des flux dudit liquide de lavage. Le flux unidirectionnel de liquide de lavage est produit à l'aide de moyens qui pompent un flux de liquide de lavage dans l'orifice d'entrée et extraient simultanément un flux de liquide de lavage par l'orifice de sortie du dispositif (100). Le flux unidirectionnel de liquide de lavage permet d'empêcher que les contaminants éliminés ne se déposent à nouveau sur la surface de la pièce à usiner nettoyée.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)