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1. (WO2010013840) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'EAU DE HAUTE PURETÉ À PARTIR D'EAU DE FAIBLE PURETÉ ET APPAREIL DE PRODUCTION D'EAU DE HAUTE PURETÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/013840    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/063898
Date de publication : 04.02.2010 Date de dépôt international : 30.07.2009
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    28.05.2010    
CIB :
C02F 1/22 (2006.01)
Déposants : CDM Consulting Co., Ltd. [JP/JP]; 5-11-11, Kachidoki, Chuo-ku, Tokyo 1040054 (JP) (Tous Sauf US).
HAYAFUJI, Shigeto [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
HASHIZUME, Hideyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : HAYAFUJI, Shigeto; (JP).
HASHIZUME, Hideyuki; (JP)
Mandataire : OHGA, Shinji; SUNNEXT INTERNATIONAL PATENT OFFICE, 3rd Floor,Shiodome Building,1-2-20 Kaigan, Minato-ku, Tokyo 1050022 (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-197395 31.07.2008 JP
Titre (EN) PROCESS FOR PRODUCING HIGH-PURITY WATER FROM LOW-PURITY WATER AND APPARATUS FOR PRODUCING THE HIGH-PURITY WATER
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'EAU DE HAUTE PURETÉ À PARTIR D'EAU DE FAIBLE PURETÉ ET APPAREIL DE PRODUCTION D'EAU DE HAUTE PURETÉ
(JA) 低純度水からの高純度水の製造方法及び製造装置
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a process for producing a high-purity water from a low-purity water that can solve a problem of a technique in which a fresh water is obtained through a gas hydrate using sea water and can realize the production of high-purity water from low-purity water including polluted water without limitation to the sea water.  The process is characterized by comprising the following sequences of steps of bringing one or more gases capable of forming a gas hydrate into contact with a low-purity water at a temperature above the freezing point of the low-purity water under such conditions that a gas hydrate is formed, whereby a solid gas hydrate suspended in the low-purity water is obtained, removing the low-purity water used in the gas hydrate forming step by dehydration while substantially maintaining the gas hydrate state and washing-out the component deposited on the gas hydrate with washing water, and bringing the gas hydrate to a higher temperature state or a lower pressure state as compared with the gas hydrate state to convert the gas hydrate into a gas and a high-purity water.
(FR)L'invention porte sur un procédé de production d'eau de haute pureté à partir d'une eau de pureté faible, qui peut résoudre un problème d'une technique dans laquelle une eau fraîche est obtenue par un hydrate gazeux à l'aide d'eau de mer et peut réaliser la production d'eau de haute pureté à partir d'une eau de pureté faible comprenant de l'eau polluée sans limitation à l'eau de mer. Le procédé est caractérisé en ce qu'il comprend les séquences d'étapes suivantes, consistant à amener un ou plusieurs gaz, capables de former un hydrate gazeux, en contact avec une eau de pureté faible à une température au-dessus du point de congélation de l'eau de pureté faible dans des conditions telles qu'un hydrate gazeux est formé, ce par quoi un hydrate de gaz solide mis en suspension dans l'eau de pureté faible est obtenu, à retirer l'eau de pureté faible utilisée dans l'étape de formation d'hydrate gazeux par déshydratation tout en maintenant sensiblement l'état d'hydrate gazeux et en lavant le composant déposé sur l'hydrate gazeux avec une eau de lavage, et à amener l'hydrate gazeux à un état de température supérieur ou un état de pression inférieur par comparaison avec l'état d'hydrate gazeux pour convertir l'hydrate gazeux en un gaz et une eau de haute pureté.
(JA)本発明に係る低純度水から高純度水の製造方法は、海水を用いてガスハイドレートを経由して淡水を得る技術の問題点を究明し、その解決を図り、それを基にして、海水に限定せず、汚水を含めた低純度水から高純度水を得るため、ガスハイドレートを形成することのできる一種若しくは二種以上のガスと低純度水とを、低純度水の氷点より高い温度であって且つガスハイドレートを形成する条件下で接触させて、低純度水に懸濁する固体のガスハイドレートを得る工程と、ガスハイドレート状態を実質的に維持しつつ、ガスハイドレート形成過程で用いた低純度水を脱水し、ガスハイドレートに付着する成分を洗浄水で洗浄する工程と、ガスハイドレート状態よりも高温あるいは低圧にすることにより、ガスハイドレートをガスと高純度水にする工程と、をこの順序で行なうことを特徴とする。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)