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1. (WO2010013831) APPAREIL ET PROCÉDÉ DE DÉPÔT DE FILM
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/013831    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/063829
Date de publication : 04.02.2010 Date de dépôt international : 29.07.2009
CIB :
C23C 14/34 (2006.01), H01L 21/28 (2006.01), H01L 21/285 (2006.01)
Déposants : FUJIFILM Corporation [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1060031 (JP) (Tous Sauf US).
FUJII, Takamichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
ARAKAWA, Takami [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
NIHEI, Yasukazu [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : FUJII, Takamichi; (JP).
ARAKAWA, Takami; (JP).
NIHEI, Yasukazu; (JP)
Mandataire : WATANABE, Mochitoshi; (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-197939 31.07.2008 JP
Titre (EN) A FILM DEPOSITING APPARATUS AND METHOD
(FR) APPAREIL ET PROCÉDÉ DE DÉPÔT DE FILM
Abrégé : front page image
(EN)A film depositing apparatus comprises: a vacuum vessel; an evacuating unit for evacuating the interior of the vacuum vessel; a gas supply source for supplying the vacuum vessel with gases necessary for film deposition; a backing plate that is placed within the vacuum vessel for holding a target formed by sintering; a substrate holder for holding a deposition substrate within the vacuum vessel in a face-to-face relation with the backing plate; and a power supply unit for supplying electric power between the backing plate and the substrate holder to generate a plasma within the vacuum vessel, wherein the backing plate has a smaller thermal expansion coefficient than that of the target which has a sinter density of at least 95%, the sinter density representing the ratio of the actual weight of a sintered form of the target to its theoretical weight.
(FR)L'invention porte sur un appareil de dépôt de film qui comprend : un récipient sous vide ; une unité d'évacuation pour évacuer l'intérieur du récipient sous vide ; une source d'alimentation en gaz pour alimenter le récipient sous vide en gaz nécessaires pour un dépôt de film ; une plaque de support qui est placée à l'intérieur du récipient de sous vide pour maintenir une cible formée par frittage ; un support de substrat pour maintenir un substrat de dépôt à l'intérieur du récipient sous vide dans une relation face à face avec la plaque de support ; et une unité d'alimentation électrique pour délivrer de l'énergie électrique entre la plaque de support et le support de substrat pour générer un plasma à l'intérieur du récipient sous vide, la plaque de support ayant un coefficient de dilatation thermique inférieur à celui de la cible qui a une densité de frittage d'au moins 95 % ; la densité de frittage représentant le rapport du poids réel d'une forme frittée de la cible à son poids théorique.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)