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1. (WO2010013821) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'ÉLÉMENT OPTIQUE ET ÉLÉMENT OPTIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/013821    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/063704
Date de publication : 04.02.2010 Date de dépôt international : 27.07.2009
CIB :
G02B 5/30 (2006.01), G02B 1/02 (2006.01)
Déposants : CANON KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 30-2, Shimomaruko 3-chome, Ohta-ku, Tokyo 1468501 (JP) (Tous Sauf US).
ARAI, Kazuhiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SAKAMOTO, Jun-ichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TERADA, Junji [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
NAKAI, Noriyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : ARAI, Kazuhiro; (JP).
SAKAMOTO, Jun-ichi; (JP).
TERADA, Junji; (JP).
NAKAI, Noriyuki; (JP)
Mandataire : OKABE, Masao; (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-193696 28.07.2008 JP
2009-155669 30.06.2009 JP
2009-167908 16.07.2009 JP
Titre (EN) METHOD OF PRODUCING OPTICAL ELEMENT AND OPTICAL ELEMENT
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'ÉLÉMENT OPTIQUE ET ÉLÉMENT OPTIQUE
Abrégé : front page image
(EN)Provided are an optical element and a method of producing an optical element in which sufficient adhesion with an upper layer can be secured without damaging spectral characteristics. The production method includes the step of forming a first structural body in which a space part and a structural part are alternately and repeatedly arranged, the step of forming an etching stopper layer on an upper part of the structural part, and the step of forming a second structural body on the etching stopper layer by etching.
(FR)L'invention porte sur un élément optique et sur un procédé de fabrication d'un élément optique, dans lequel une adhésion suffisante avec une couche supérieure peut être assurée sans endommager les caractéristiques spectrales. Le procédé de fabrication comprend l'étape de formation d'un premier corps structural dans lequel une partie d'espace et une partie structurale sont agencées de façon alternée et répétée, l'étape de formation d'une couche d'arrêt de gravure sur une partie supérieure de la partie structurale, et l'étape de formation d'un second corps structural sur la couche d'arrêt de gravure par gravure.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)