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1. (WO2010013743) PROCÉDÉ DE CONCENTRATION DE XÉNON GAZEUX POLARISÉ, DISPOSITIF D'ALIMENTATION POUR LA FABRICATION DE XÉNON GAZEUX POLARISÉ, ET SYSTÈME D'IRM
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/013743    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/063482
Date de publication : 04.02.2010 Date de dépôt international : 29.07.2009
CIB :
G01R 33/28 (2006.01), A61B 5/055 (2006.01), B01D 5/00 (2006.01), C01B 23/00 (2006.01)
Déposants : OSAKA UNIVERSITY [JP/JP]; 1-1, Yamadaoka, Suita-shi, Osaka 5650871 (JP) (Tous Sauf US).
FUJIWARA, Hideaki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
IMAI, Hirohiko [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
IGUCHI, Satoshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
YOSHIMURA, Hironobu [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KIMURA, Atsuomi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : FUJIWARA, Hideaki; (JP).
IMAI, Hirohiko; (JP).
IGUCHI, Satoshi; (JP).
YOSHIMURA, Hironobu; (JP).
KIMURA, Atsuomi; (JP)
Mandataire : Saegusa & Partners; Kitahama TNK Building, 1-7-1, Doshomachi, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5410045 (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-199302 01.08.2008 JP
Titre (EN) POLARIZED XENON GAS CONCENTRATION METHOD, POLARIZED XENON GAS MANUFACTURING SUPPLY DEVICE, AND MRI SYSTEM
(FR) PROCÉDÉ DE CONCENTRATION DE XÉNON GAZEUX POLARISÉ, DISPOSITIF D'ALIMENTATION POUR LA FABRICATION DE XÉNON GAZEUX POLARISÉ, ET SYSTÈME D'IRM
(JA) 偏極キセノンガスの濃縮方法、偏極キセノンガスの製造供給装置及びMRIシステム
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a polarized xenon gas manufacturing supply device that is equipped with a polarized cell (6) that produces a polarized xenon gas by polarizing a mixed gas of xenon gas and a diluent gas which consists primarily of a high-boiling gas the boiling point of which is higher than that of the xenon gas, and a condenser (9) that cools the mixed gas discharged from the polarized cell (6) and condenses and separates the high-boiling gas by using the difference in boiling point between the xenon gas and the high-boiling gas, and configured so as to re-gasify the condensed liquid of the high-boiling gas produced by the condenser (9) and introduce the liquid into the polarized cell (6). With this polarized xenon gas manufacturing device, it is possible to continuously manufacture and supply highly polarized and highly concentrated xenon gas.
(FR)La présente invention concerne un dispositif d'alimentation pour la fabrication de xénon gazeux polarisé qui est équipé, d'une part d'une cellule polarisée (6) produisant du xénon gazeux polarisé en polarisant un mélange gazeux de xénon gazeux et d'un gaz diluant constitué essentiellement d'un gaz à point d'ébullition élevé supérieur à celui du xénon gazeux, et d'autre part d'un condenseur (9) qui, d'une part refroidit le mélange gazeux se déchargeant de la cellule polarisée (6) et qui, d'autre part, condense et sépare le gaz à point d'ébullition élevé en jouant sur l'écart entre les points d'ébullition du xénon gazeux et du gaz à point d'ébullition élevé. En outre, le dispositif est configuré pour regazéifier le liquide condensé du gaz à point d'ébullition élevé produit par le condenseur (9) et pour introduire le liquide dans la cellule polarisée (6). Ce dispositif de fabrication de xénon gazeux polarisé permet de fabriquer en continu et de fournir un xénon gazeux hautement polarisé et hautement concentré.
(JA) キセノンガスと、キセノンガスよりも沸点が高い高沸点ガスを主成分とする希釈ガスを混合した混合ガスを偏極処理することにより、偏極キセノンガスを生成する偏極セル6と、偏極セル6から排出された混合ガスを冷却し、キセノンガスと高沸点ガスとの沸点差を利用して高沸点ガスを凝縮分離する凝縮器9とを備え、凝縮器9で生成された高沸点ガスの凝縮液を再び気化させて、偏極セル6に導入するように構成した偏極キセノンガスの製造供給装置である。この偏極キセノンガスの製造供給装置によれば、高偏極率で高濃度のキセノンガスを連続的に製造供給することができる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)