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1. (WO2010013724) COMPOSÉ CONTENANT UNE STRUCTURE D’1,3-DIÈNE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/013724    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/063457
Date de publication : 04.02.2010 Date de dépôt international : 29.07.2009
CIB :
C08G 61/00 (2006.01), C07C 17/269 (2006.01), C07C 25/24 (2006.01), C07C 43/225 (2006.01), C09K 11/06 (2006.01), H01L 51/05 (2006.01), H01L 51/30 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01)
Déposants : SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 27-1, Shinkawa 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1048260 (JP) (Tous Sauf US).
NAKATANI Tomoya [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : NAKATANI Tomoya; (JP)
Mandataire : ASAMURA Kiyoshi; (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-194523 29.07.2008 JP
Titre (EN) COMPOUND CONTAINING 1,3-DIENE STRUCTURE AND METHOD FOR PRODUCING SAME
(FR) COMPOSÉ CONTENANT UNE STRUCTURE D’1,3-DIÈNE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 1,3-ジエン構造を含む化合物及びその製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a compound containing a divalent group represented by formula (I). (In formula (I), Ar1 represents an arylene group, a divalent heterocyclic group or a divalent aromatic amine group; J1 represents a phenylene group; J2 represents an alkylene group; X represents an oxygen atom or a sulfur atom; j represents 0 or 1, k represents an integer of 0-3, and l represents 0 or 1, while satisfying 1 ≤ j + k + l ≤ 5; m represents 1 or 2; R1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an alkylthio group, an aryl group, an aryloxy group, an arylthio group, an arylalkyl group, an arylalkoxy group, an arylalkylthio group, an arylalkenyl group, an arylalkynyl group, an amino group, a substituted amino group, a silyl group, a substituted silyl group, a halogen atom, an acyl group, an acyloxy group, an imine residue, a carbamoyl group, an acid imide group, a monovalent heterocyclic group, a carboxyl group, a substituted carboxyl group, a cyano group or a nitro group; the plurality of R1's may be the same as or different from each other; and when there are a plurality of J1's, J2's, X's, j's, k's or l's, the J1's, J2's, X's, j's, k's or l's may be the same as or different from each other, respectively.)
(FR)L'invention porte sur un composé contenant un groupe divalent représenté par la formule (I). (Dans la formule (I), Ar1 représente un groupe arylène, un groupe hétérocyclique divalent ou un groupe amine aromatique divalent; J1 représente un groupe phénylène; J2 représente un groupe alkylène; X représente un atome d'oxygène ou un atome de soufre; j représente 0 ou 1, k représente un entier de 0-3, et l représente 0 ou 1, tout en satisfaisant 1 ≤ j + k + l ≤ 5; m représente 1 ou 2; R1 représente un atome d'hydrogène, un groupe alkyle, un groupe alcoxy, un groupe alkylthio, un groupe aryle, un groupe aryloxy, un groupe arylthio, un groupe arylalkyle, un groupe arylalcoxy, un groupe arylalkylthio, un groupe arylalcényle, un groupe arylalcynyle, un groupe amino, un groupe amino substitué, un groupe silyle, un groupe silyle substitué, un atome d'halogène, un groupe acyle, un groupe acyloxy, un reste imine, un groupe carbamoyle, un groupe imide d'acide, un groupe hétérocyclique monovalent, un groupe carboxyle, un groupe carboxyle substitué, un groupe cyano ou un groupe nitro; les différents R1 peuvent être identiques ou différents les uns des autres; et lorsqu'il y a plusieurs J1, J2, X, j, k ou l, les J1, J2, X, j, les k ou l peuvent être respectivement identiques ou différents les uns des autres.
(JA) 下記式(I)(式(I)中、Ar1はアリーレン基、2価の複素環基又は2価の芳香族アミン基を表す。J1はフェニレン基を表し、J2はアルキレン基を表し、Xは酸素原子又は硫黄原子を表す。jは0又は1であり、kは0~3の整数であり、lは0又は1であり、1≦j+k+l≦5を満たす。mは1又は2である。R1は、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基、アリールアルキルチオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、シリル基、置換シリル基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、カルバモイル基、酸イミド基、1価の複素環基、カルボキシル基、置換カルボキシル基、シアノ基又はニトロ基を表す。複数存在するR1は、同一であっても異なっていてもよい。J1、J2、X、j、k及びlは、複数存在する場合、各々、同一であっても異なっていてもよい。)で示される2価の基を含む化合物。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)