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1. (WO2010013661) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF DE NETTOYAGE D'UN SUBSTRAT ET MILIEU DE STOCKAGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/013661    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/063329
Date de publication : 04.02.2010 Date de dépôt international : 27.07.2009
CIB :
H01L 21/304 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-1, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1076325 (JP) (Tous Sauf US).
TAMURA Akitake [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KAKIMOTO Akinobu [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
DOBASHI Kazuya [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : TAMURA Akitake; (JP).
KAKIMOTO Akinobu; (JP).
DOBASHI Kazuya; (JP)
Mandataire : YOSHITAKE Kenji; (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-198586 31.07.2008 JP
Titre (EN) METHOD AND DEVICE FOR CLEANING A SUBSTRATE, AND STORAGE MEDIUM
(FR) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF DE NETTOYAGE D'UN SUBSTRAT ET MILIEU DE STOCKAGE
(JA) 基板の洗浄方法、基板の洗浄装置及び記憶媒体
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a cleaning method in which a substrate having a pattern formed on the surface thereof is cleaned using a cleaning fluid, wherein the substrate can be cleaned while preventing the pattern protrusions from being flattened when the cleaning fluid is removed or dried. The cleaning method includes the steps of: loading a substrate onto a loading platform inside a processing vessel; heating the substrate; and supplying a cleaning fluid onto the surface of the substrate. The Leidenfrost phenomenon occurs in the cleaning fluid supply step, and the substrate is heated in the substrate heating step in such a way that steam from the cleaning fluid comes between the substrate and droplets of the cleaning fluid supplied to the substrate.
(FR)L'invention concerne un procédé de nettoyage. Selon l’invention, on nettoie un substrat comportant une surface en relief à l'aide d'un liquide de nettoyage, le substrat pouvant être nettoyé sans que les éléments en relief ne soient abîmés lors de l'élimination du liquide de nettoyage ou lors du séchage. Le procédé de nettoyage consiste : à charger un substrat sur une plate-forme de chargement à l'intérieur de la cuve de traitement ; à chauffer le substrat ; et à verser un liquide de nettoyage sur la surface du substrat. Le phénomène de Leidenfrost se produit lors de l'opération d'apport de liquide de nettoyage, et on chauffe le substrat à l'étape de chauffage du substrat de telle sorte que de la vapeur du liquide de nettoyage passe entre le substrat et les gouttelettes de liquide de nettoyage versées sur le substrat.
(JA) 洗浄液により表面にパターンが形成された基板を洗浄する洗浄方法であって、洗浄液を除去あるいは乾燥させる際に、パターンの凸部の倒れを抑えながら当該基板を洗浄することができる洗洗浄方法を提供する。洗浄方法は、処理容器内の載置台に基板を載置する工程と、基板を加熱する工程と、前記基板の表面に洗浄液を供給する工程と、を含む。洗浄液を供給する工程において、ライデンフロスト現象が起こり、基板に供給される洗浄液の液滴と基板との間に前記洗浄液の蒸気が介在するように、基板を加熱する工程において基板が加熱される。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)