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1. (WO2010013333) DISPOSITIF SOUS VIDE ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT SOUS VIDE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/013333    N° de la demande internationale :    PCT/JP2008/063730
Date de publication : 04.02.2010 Date de dépôt international : 31.07.2008
CIB :
C23C 14/56 (2006.01), C23C 16/44 (2006.01)
Déposants : SHIMADZU CORPORATION [JP/JP]; 1, Nishinokyo-kuwabaracho, Nakagyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6048511 (JP) (Tous Sauf US).
SAKAGUCHI, Sumito [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TAKAMI, Yoshio [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
OKAMOTO, Hideki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KITAHARA, Dai [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : SAKAGUCHI, Sumito; (JP).
TAKAMI, Yoshio; (JP).
OKAMOTO, Hideki; (JP).
KITAHARA, Dai; (JP)
Mandataire : MIYOSHI, Hidekazu; Toranomon Kotohira Tower, 2-8, Toranomon 1-chome, Minato-ku, Tokyo, 1050001 (JP)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) VACUUM DEVICE AND VACUUM TREATMENT METHOD
(FR) DISPOSITIF SOUS VIDE ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT SOUS VIDE
(JA) 真空装置及び真空処理方法
Abrégé : front page image
(EN)A vacuum device has an evacuatable chamber (30), a treatment chamber (20) provided at a part of the upper portion of the evacuatable chamber (30), a load chamber (10) provided at another part of the upper portion of the evacuatable chamber (30), a conveyance mechanism (36) facing both the treatment chamber (20) and the load chamber (10) and conveying work (la, lb) to a portion below the treatment chamber (20) or the load chamber (10), a first tray (11) vertically moving between the load chamber (10) and the conveyance mechanism (36) to convey the work (la, lb) between the load chamber (10) and the conveyance mechanism (36) and partitioning the load chamber (10) so that the load chamber (10) can be evacuated to vacuum, and a second tray (21) vertically moving between the treatment chamber (20) and the conveyance mechanism (36) to convey the work (la, lb) between the treatment chamber (20) and the conveyance mechanism (36).
(FR)L'invention porte sur un dispositif sous vide qui présente une chambre pouvant être mise sous vide (30), une chambre de traitement (20) disposée au niveau d’une partie de la partie supérieure de la chambre pouvant être mise sous vide (30), une chambre de charge (10) disposée au niveau d'une autre partie de la partie supérieure de la chambre pouvant être mise sous vide (30), un mécanisme de transport (36) faisant face à  la chambre de traitement (20) et à la chambre de charge (10) et transportant une pièce à travailler (1a, 1b) vers une partie en dessous de la chambre de traitement (20) ou de la chambre de charge (10), un premier plateau (11) se déplaçant verticalement entre la chambre de charge (10) et le mécanisme de transport (36) pour transporter la pièce à travailler (1a, 1b) entre la chambre de charge (10) et le mécanisme de transport (36) et séparant la chambre de charge (10) de telle sorte que la chambre de charge (10) peut être évacuée jusqu'au vide, et un deuxième plateau (21) se déplaçant verticalement entre la chambre de traitement (20) et le mécanisme de transport (36) pour transporter la pièce à travailler (1a, 1b) entre la chambre de traitement (20) et le mécanisme de transport (36).
(JA) 真空排気可能なチャンバ(30)と、チャンバ(30)の上方の一部に設けられた処理室(20)と、チャンバ(30)の上方の他の一部に設けられたロード室(10)と、処理室(20)及びロード室(10)に対向し、ワーク(1a、1b)を処理室(20)又はロード室(10)の下方に搬送する搬送機構(36)と、ロード室(10)と搬送機構(36)との間を上下してロード室(10)と搬送機構(36)との間でワーク(1a、1b)を搬送するとともに、ロード室(10)を真空排気可能に間仕切りする第1トレイ(11)と処理室(20)と搬送機構(36)との間を上下して、処理室(20)と搬送機構(36)との間でワーク(1a、1b)を搬送する第2トレイ(21)とを備える。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)