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1. (WO2010011183) PROCÉDÉ ET SYSTÈME D’ÉLIMINATION DE CONTAMINANTS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/011183    N° de la demande internationale :    PCT/SG2008/000274
Date de publication : 28.01.2010 Date de dépôt international : 25.07.2008
CIB :
B08B 7/00 (2006.01), H01L 21/30 (2006.01)
Déposants : SHARMA, Sandeep [SG/SG]; (SG)
Inventeurs : SHARMA, Sandeep; (SG)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) METHOD AND SYSTEM FOR REMOVING CONTAMINANTS
(FR) PROCÉDÉ ET SYSTÈME D’ÉLIMINATION DE CONTAMINANTS
Abrégé : front page image
(EN)A method and apparatus for removing contaminants from at least one portion of a semiconductor object (302) are disclosed. A nozzle (306) is positioned at a preset position with respect to the portion of the semiconductor object (302). Solid particles (310) of a material that sublimes instantaneously at a predefined temperature and/or pressure are blasted over the portion, though the nozzle (306). On impact, the particles (310) remove the contaminants (304) from the portion of the semiconductor object.
(FR)L'invention concerne un procédé et un appareil destinés à éliminer des contaminants d’au moins une partie d’un objet semiconducteur (302). Une buse (306) est positionnée dans une position préréglée par rapport à la partie de l’objet semiconducteur (302). Des particules solides (310) d’un matériau qui se sublime instantanément à une température et / ou une pression prédéfinies sont projetées sur la partie en question, à travers la buse (306). Lors de l’impact, les particules (310) détachent les contaminants (304) de la partie de l’objet semiconducteur.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)