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1. (WO2010011113) REVÊTEMENT CÉRAMIQUE RÉSISTANT AU PLASMA
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/011113    N° de la demande internationale :    PCT/KR2009/004160
Date de publication : 28.01.2010 Date de dépôt international : 27.07.2009
CIB :
C23C 24/04 (2006.01)
Déposants : KOMICO LTD. [KR/KR]; 79 Sinmosan-dong Anseong-si Gyeonggi-do 456-390 (KR) (Tous Sauf US).
HWANG, Chul-Ho [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
CHANG, Jae-Hoon [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
SEO, Jun-Ho [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
KIM, Hyung-In [KR/KR]; (KR) (US Seulement)
Inventeurs : HWANG, Chul-Ho; (KR).
CHANG, Jae-Hoon; (KR).
SEO, Jun-Ho; (KR).
KIM, Hyung-In; (KR)
Mandataire : PARK, Young-Woo; 5F Seil Building, #727-13 Yeoksam-dong, Gangnam-gu Seoul 135-921 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2008-0072852 25.07.2008 KR
Titre (EN) CERAMIC COATING WITH PLASMA RESISTANCE
(FR) REVÊTEMENT CÉRAMIQUE RÉSISTANT AU PLASMA
(KO) 내 플라즈마성 갖는 세라믹 코팅체
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a ceramic coating with improved plasma resistance applied to a plasma processing apparatus. The ceramic coating is formed on a substance applied to a plasma processing apparatus and on the surface of the substance. In addition, the ceramic coating has 13-25 nm/min of a corrosion rate for the plasma formed at 800W power and includes a ceramic coating film with 0.1-1% porosity. Accordingly, surface damage of the ceramic coating, as configured above, can be reduced even if it is exposed to plasma for lengthy periods.
(FR)L'invention concerne un revêtement céramique présentant une résistance au plasma améliorée, que l'on applique à un appareil de traitement par plasma. Ledit revêtement céramique est formé sur une substance appliquée à un appareil de traitement par plasma et sur la surface de ladite substance. De plus, le revêtement céramique présente une vitesse de corrosion de 13-25 nm/min pour le plasma formé à une puissance de 800 W et comporte un film de revêtement céramique d'une porosité de 0,1-1%. En conséquence, bien que le revêtement céramique conçu comme ci-dessus soit exposé au plasma pendant une longue durée, l'endommagement de sa surface peut être suffisamment réduit.
(KO)플라즈마 처리장치에 적용되는 내 플라즈마 특성이 향상된 세라믹 코팅체가 개시되어 있다. 상기 세라믹 코팅체는 플라즈마 처리장치에 적용되는 피 코팅체 및 상기 피 코팅체 표면에 형성되며 800W 파워에서 형성된 플라즈마에 대하여 13 내지 25nm/min의 부식속도를 갖고, 기공의 함유율이 0.1 내지 1%인 세라믹 코팅막을 포함하는 구성을 갖는다. 이러한 구성을 갖는 세라믹 코팅체는 플라즈마에 장시간 노출되어도 그 표면 손상이 충분히 감소될 수 있다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)