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1. (WO2010011076) DISPOSITIF DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR CONTINUE DE POUDRE SOLIDE ET PROCÉDÉ DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR CONTINUE DE POUDRE SOLIDE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/011076    N° de la demande internationale :    PCT/KR2009/004041
Date de publication : 28.01.2010 Date de dépôt international : 21.07.2009
CIB :
C23C 24/04 (2006.01), B05B 7/14 (2006.01)
Déposants : FEMVIX [KR/KR]; 829ho, Hyundaiventureville 24-1, Gumi-dong, Bundang-gu Seongnam-si Gyeonggi-do 463-808 (KR) (Tous Sauf US).
KIM, Ok Ryul [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
KIM, Ok Min [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
LEE, Kuen Sik [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
CHEONG, Seung Chae [KR/KR]; (KR) (US Seulement)
Inventeurs : KIM, Ok Ryul; (KR).
KIM, Ok Min; (KR).
LEE, Kuen Sik; (KR).
CHEONG, Seung Chae; (KR)
Mandataire : CHO, Sung Kwang; 3rd FL, Yeosam Bldg. 648-23 Yeoksam 1-dong Gangnam-gu Seoul 135-748 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2008-0072119 24.07.2008 KR
10-2008-0090115 12.09.2008 KR
10-2008-0109254 05.11.2008 KR
10-2008-0111430 11.11.2008 KR
10-2009-0021959 16.03.2009 KR
10-2009-0032151 14.04.2009 KR
Titre (EN) CONTINUOUS SOLID POWDER VAPOUR-DEPOSITION DEVICE, AND A CONTINUOUS SOLID POWDER VAPOUR DEPOSITION METHOD
(FR) DISPOSITIF DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR CONTINUE DE POUDRE SOLIDE ET PROCÉDÉ DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR CONTINUE DE POUDRE SOLIDE
(KO) 고상파우더 연속 증착장치 및 고상파우더 연속 증착방법
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a method and a device in which a solid powder is evenly dispersed and is uniformly and continuously vapour-deposited onto a substrate in such a way that a uniform thin film can be formed. More specifically the present invention provides a method and a device for forming a thin film, in which a solid powder is vapour-deposited both evenly and continuously across an entire surface of a substrate, regardless of the material or size of the substrate, by using a nozzle to continuously inject an aerosol of predetermined density, speed and flow rate which is produced by supplying solid powder in a predetermined amount per unit time and a carrier gas at a predetermined flow rate per unit time in a carrier tube regardless of the size, consistency and specific gravity of the solid powder particles.
(FR)La présente invention concerne un procédé et un dispositif dans lesquels une poudre solide est dispersée de manière homogène et est déposée en phase vapeur uniformément et en continu sur un substrat de telle manière qu'un film mince uniforme peut être formé. Plus spécifiquement, la présente invention concerne un procédé et un dispositif de formation d'un film mince, dans lesquels une poudre solide est déposée en phase vapeur à la fois de manière homogène et continue sur une surface entière d'un substrat, indépendamment du matériau ou de la taille du substrat, à l'aide d'une buse pour injecter en continu un aérosol de densité, vitesse et débit prédéterminés qui est produit par alimentation en une poudre solide dans une quantité prédéterminée par unité de temps et en un gaz porteur à un débit prédéterminé par unité de temps dans un tube de support indépendamment de la taille, de la consistance et de la gravité spécifique des particules de poudre solide.
(KO)본 발명은 고상의 파우더를 균등 분산시켜 기재에 균일하게 연속적으로 증착하여 균일한 박막을 형성할 수 있는 방법 및 그 장치에 관한 것으로서, 구체적으로는 고상 파우더 입자의 크기, 형태 및 비중에 상관없이 수송관에 단위 시간당 일정한 유량의 수송기체와 단위 시간당 일정한 양의 고상파우더를 공급하여 생성된 밀도, 속도, 유량이 일정한 에어로졸을 연속적으로 노즐에 유입시켜 기재의 재질 및 크기에 상관없이 기재 단면 전체에 걸쳐 균등하게 연속적으로 고상파우더를 증착하여 박막을 형성시킬 수 있는 방법 및 그 장치를 제공한다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)