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1. (WO2010010899) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE DE TYPE POSITIF ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE FILM DURCI UTILISANT CETTE COMPOSITION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/010899    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/063117
Date de publication : 28.01.2010 Date de dépôt international : 22.07.2009
CIB :
G03F 7/039 (2006.01), C08F 20/28 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : FUJIFILM Corporation [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP) (Tous Sauf US).
TAKITA, Satoshi [JP/JP]; (US Seulement)
Inventeurs : TAKITA, Satoshi;
Mandataire : SUZUYE, Takehiko; (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-191152 24.07.2008 JP
Titre (EN) POSITIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND CURED FILM PRODUCTION METHOD USING THE SAME
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE DE TYPE POSITIF ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE FILM DURCI UTILISANT CETTE COMPOSITION
(JA) ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a positive-type photosensitive resin composition which is characterized by comprising: a resin which has a specific acrylic acid type constituent unit, is alkali-insoluble or poorly alkali-soluble, and can become alkali-soluble upon the dissociation of an acid-dissociative group contained therein, wherein the specific acrylic acid type constituent unit can produce a carboxyl group upon the dissociation of a dissociative group contained therein; a compound having at least two epoxy groups in the molecule; and a compound capable of generating an acid upon the irradiation with an active ray having a wavelength of 300 nm or longer.  Also disclosed is a method for forming a cured film by using the positive-type photosensitive resin composition.
(FR)L’invention concerne une composition de résine photosensible de type positif qui se caractérise en ce qu'elle comprend : une résine, qui comporte un ensemble constituant spécifique de type acide acrylique, n’est pas soluble dans les alcalis ou est faiblement soluble dans les alcalis, et peut devenir soluble dans les alcalis lors de la dissociation d’un groupement dissociatif d’acide contenu à l’intérieur d'elle-même, l’unité constituante spécifique de type acide acrylique pouvant produire un groupe carboxylique lors de la dissociation d’un groupement dissociatif contenu à l’intérieur d'elle-même ; un composé ayant au moins deux groupes époxydiques dans la molécule ; et un composé capable de générer un acide lors de l’irradiation avec un rayon actif ayant une longueur d’onde de 300 nm ou plus. L’invention concerne également un procédé de formation d’un film durci utilisant la composition de résine photosensible de type positif.
(JA) 解離性基が解離することで、カルボキシル基を生じる特定のアクリル酸系構成単位を含有し、アルカリ不溶性若しくはアルカリ難溶性であり、且つ、酸解離性基が解離したときにアルカリ可溶性となる樹脂、分子内に2個以上のエポキシ基を有する化合物、及び波長300nm以上の活性光線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物、及び、それを用いた硬化膜形成方法。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)