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1. (WO2010010667) COPOLYMÈRE DURCISSABLE ET COMPOSITION DE RÉSINE DURCISSABLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/010667    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/003295
Date de publication : 28.01.2010 Date de dépôt international : 14.07.2009
CIB :
C08F 220/32 (2006.01), C08F 220/06 (2006.01), C08F 232/08 (2006.01)
Déposants : DAICEL CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; MAINICHI INTECIO. 3-4-5, Umeda, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300001 (JP) (Tous Sauf US).
TAKAWAKI, Koichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
NIJUKKEN, Toshihiko [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : TAKAWAKI, Koichi; (JP).
NIJUKKEN, Toshihiko; (JP)
Mandataire : GOTO, Yukihisa; (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-192617 25.07.2008 JP
Titre (EN) CURABLE COPOLYMER AND CURABLE RESIN COMPOSITION
(FR) COPOLYMÈRE DURCISSABLE ET COMPOSITION DE RÉSINE DURCISSABLE
(JA) 硬化性共重合体及び硬化性樹脂組成物
Abrégé : front page image
(EN)The copolymer includes at least monomer units (A) corresponding to a carboxyl group-or carboxylic acid anhydride group-containing polymerizable unsaturated compound (a), monomer units (B) corresponding to at least one type of polymerizable unsaturated compound (b) selected from among the compounds represented by formula (1) and formula (2), and monomer units (C) corresponding to at least one type of polymerizable unsaturated compound (c) selected from among the compounds represented by formula (3) and formula (4). High performance cured films having excellent hardness, solvent resistance and heat resistance can be formed using said copolymers as radiation-sensitive resins. (in the formulae (1) and (2), Ra is a hydrogen atom or an alkyl group having 1-4 carbon atoms or the like, and Rb is a single bond or an alkylene group having 1-18 carbon atoms or the like) (in the formulae (3) and (4), Rc is a hydrogen atom or an alkyl group having 1-4 carbon atoms or the like, and Rd is a single bond or an alkylene group having 1-18 carbon atoms or the like)
(FR)La présente invention concerne un copolymère comprenant au moins des motifs monomères (A) correspondant à un composé insaturé polymérisable contenant un groupe carboxyle ou un groupe anhydride d’acide carboxylique (a), des motifs monomères (B) correspondent à au moins un type de composé insaturé polymérisable (b) choisi parmi les composés représentés par la formule (1) et la formule (2), et des motifs monomères (C) correspondant à au moins un type de composé insaturé polymérisable (c) choisi parmi les composés représentés par la formule (3) et la formule (4). Des films durcis haute performance présentant d’excellentes caractéristiques de dureté, résistance aux solvants et résistance à la chaleur peuvent être formés à l’aide desdits copolymères comme résines sensibles aux rayonnements. (dans les formules (1) et (2), Ra est un atome d’hydrogène ou un groupe alkyle ayant 1-4 atomes de carbone ou similaire, et Rb est une liaison simple ou un groupe alkylène ayant 1-18 atomes de carbone ou similaire) (dans les formules (3) et (4), Rc est un atome d’hydrogène ou un groupe alkyle ayant 1-4 atomes de carbone ou similaire, et Rd est une liaison simple ou un groupe alkylène ayant 1-18 atomes de carbone ou similaire)
(JA) 本発明の共重合体は、カルボキシル基又は酸無水物基含有重合性不飽和化合物(a)に対応するモノマー単位(A)、下記式(1)及び(2)(式中、Raは水素原子又は炭素数1~4のアルキル基等を示し、Rbは単結合又は炭素数1~18のアルキレン基等を示す)で表される化合物から選択される少なくとも1種の重合性不飽和化合物(b)に対応するモノマー単位(B)、及び下記式(3)及び(4)(式中、Rcは水素原子又は炭素数1~4のアルキル基等を示し、Rdは単結合又は炭素数1~18のアルキレン基等を示す)で表される化合物から選択される少なくとも1種の重合性不飽和化合物(c)に対応するモノマー単位(C)を少なくとも含む。このような共重合体を感放射線性樹脂として用いることにより、硬度、耐溶剤性及び耐熱性に優れた高性能の硬化皮膜を形成できる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)