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1. (WO2010010034) DISPOSITIF DE MONTAGE D'ÉLÉMENT OPTIQUE POUR APPAREIL LITHOGRAPHIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/010034    N° de la demande internationale :    PCT/EP2009/059131
Date de publication : 28.01.2010 Date de dépôt international : 16.07.2009
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : ASML NETHERLANDS B.V. [--/NL]; De Run 6501 NL-5504 DR Veldhoven (NL) (Tous Sauf US).
TEGENBOSCH, Henricus, Gerardus [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
STRUYCKEN, Alexander, Matthijs [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
KLEIJN, Jacob [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
BEERENS, Ruud, Antonius, Catharina, Maria [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
VANDERHALLEN, Ivo [NL/NL]; (NL) (US Seulement)
Inventeurs : TEGENBOSCH, Henricus, Gerardus; (NL).
STRUYCKEN, Alexander, Matthijs; (NL).
KLEIJN, Jacob; (NL).
BEERENS, Ruud, Antonius, Catharina, Maria; (NL).
VANDERHALLEN, Ivo; (NL)
Mandataire : SLENDERS, Petrus, J. W.; (NL)
Données relatives à la priorité :
61/129,813 21.07.2008 US
Titre (EN) OPTICAL ELEMENT MOUNT FOR LITHOGRAPHIC APPARATUS
(FR) DISPOSITIF DE MONTAGE D'ÉLÉMENT OPTIQUE POUR APPAREIL LITHOGRAPHIQUE
Abrégé : front page image
(EN)A mount configured to mount an optical element (1) in a module (70, 170) for a lithographic apparatus. The mount includes a plurality of resilient members (12) constructed and arranged to circumferentially support the optical element (1). Each resilient member (2) includes a plurality of resilient subsections that (4', 4'', 4''') are configured to engage the optical element (1) around a perimeter thereof. Each resilient subsection is configured to flex independent of another resilient subsection.
(FR)L'invention concerne un dispositif de montage conçu pour monter un élément optique (1) dans un module (70, 170) pour un appareil lithographique. Ledit dispositif de montage comprend une pluralité d'éléments élastiques (12) conçus et disposés de manière à supporter l'élément optique (1) sur sa circonférence. Chaque élément élastique (2) comprend une pluralité de sous-sections élastiques (4', 4'', 4''') qui sont conçues pour entrer en contact avec l'élément optique sur son pourtour et chaque sous-section élastique est conçue de manière à pouvoir fléchir indépendamment d'une autre sous-section élastique.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)