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1. (WO2010009467) PROCÉDÉ POUR FORMER DES REVÊTEMENTS DE DIAMANT NANOCRISTALLIN SUR DES GEMMES ET D'AUTRES SUBSTRATS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/009467    N° de la demande internationale :    PCT/US2009/051150
Date de publication : 21.01.2010 Date de dépôt international : 20.07.2009
CIB :
B05D 1/18 (2006.01), A44C 17/00 (2006.01), B05D 5/06 (2006.01)
Déposants : NEOGI, Suneeta [--/US]; (US).
NEOGI, Jayant [--/US]; (US)
Inventeurs : NEOGI, Suneeta; (US).
NEOGI, Jayant; (US)
Mandataire : ONDERICK, Paul, C.; (US)
Données relatives à la priorité :
61/082,030 18.07.2008 US
Titre (EN) METHOD FOR PRODUCING NANOCRYSTALLINE DIAMOND COATINGS ON GEMSTONES AND OTHER SUBSTRATES
(FR) PROCÉDÉ POUR FORMER DES REVÊTEMENTS DE DIAMANT NANOCRISTALLIN SUR DES GEMMES ET D'AUTRES SUBSTRATS
Abrégé : front page image
(EN)A method to apply nano-crystalline diamond onto a selected substrate, including preparing Nanodiamond slurry of nanodiamond particles dispersed in a medium. The medium may include a liquid or a sol-gel. The selected substrate is immersed in the Nanodiamond slurry for a predetermined period of time. Then the substrate is removed from the slurry. The substrate is then dried with a flow of inert gas. The substrate is left coated with a coating of the nanodiamond particles that are highly adherently held by van der Waals forces.
(FR)L'invention concerne un procédé, pour appliquer un diamant nanocristallin sur un substrat sélectionné, qui comprend la préparation d'une suspension de nanodiamant constituée de particules de nanodiamant dispersées dans un milieu. Le milieu peut comprendre un liquide ou un sol-gel. Le substrat sélectionné est immergé dans la suspension de nanodiamant pendant une période de temps prédéterminée. Ensuite, le substrat est enlevé de la suspension. Le substrat est ensuite séché avec un flux de gaz inerte. Le substrat est laissé revêtu d'un revêtement de particules de nanodiamant qui sont retenues fortement en adhérence par des forces de van der Waals.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)