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1. (WO2010009420) TAMPON DE POLISSAGE AVEC ÉLÉMENTS FLOTTANTS, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION ET D'UTILISATION DE CEUX-CI
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/009420    N° de la demande internationale :    PCT/US2009/051032
Date de publication : 21.01.2010 Date de dépôt international : 17.07.2009
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    26.01.2010    
CIB :
B24B 37/04 (2006.01), B24D 13/14 (2006.01)
Déposants : 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY [US/US]; 3M Center Post Office Box 33427 St. Paul, MN 55133-3427 (US) (Tous Sauf US).
JOSEPH, William, D. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : JOSEPH, William, D.; (US)
Mandataire : GWIN, Sanders, H., Jr.; Shumaker & Sieffert, P.A. 1625 Radio Drive, Suite 300 Woodbury, MN 55125 (US).
GWIN, Doreen, S. L.; Shumaker & Sieffert, P.A. 1625 Radio Drive, Suite 300 Woodbury, MN 55125 (US)
Données relatives à la priorité :
61/081,891 18.07.2008 US
Titre (EN) POLISHING PAD WITH FLOATING ELEMENTS AND METHOD OF MAKING AND USING THE SAME
(FR) TAMPON DE POLISSAGE AVEC ÉLÉMENTS FLOTTANTS, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION ET D'UTILISATION DE CEUX-CI
Abrégé : front page image
(EN)The disclosure is directed to polishing pads with floating polishing elements bonded to a support layer, for example by thermal bonding, and to methods of making and using such pads in a polishing process. In one exemplary embodiment, the polishing pad includes a multiplicity of polishing elements, at least some of which may be porous, each polishing element affixed to a major surface of a support layer so as to restrict lateral movement of the polishing elements with respect to one or more of the other polishing elements, but remaining moveable in an axis substantially normal to the support layer. In certain embodiments, the polishing pad may additionally include a compliant layer affixed to the support layer opposite the polishing elements, and optionally, a polishing composition distribution layer. In some embodiments using porous polishing elements, the pores are distributed substantially at a polishing surface of the polishing elements.
(FR)L'invention concerne des tampons de polissage avec des éléments de polissage flottants fixés sur une couche de support, par exemple par liaison thermique, et des procédés de fabrication et d'utilisation de tels tampons dans un processus de polissage. Selon un mode de réalisation en exemple, le tampon de polissage comprend une multitude d'éléments de polissage, dont au moins certains peuvent être poreux, chaque élément de polissage étant fixé à une surface principale d'une couche de support, de manière à limiter un déplacement latéral des éléments de polissage par rapport à un ou plusieurs des autres éléments de polissage, mais en restant mobiles dans un axe sensiblement perpendiculaire à la couche de support. Dans certains modes de réalisation, le tampon de polissage peut facultativement comprendre une couche souple fixée sur la couche de support opposée aux éléments de polissage, et facultativement une couche de répartition de composition de polissage. Dans certains modes de réalisation utilisant des éléments de polissage poreux, les pores sont répartis sensiblement au niveau d'une surface de polissage des éléments de polissage.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)