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1. (WO2010009259) DISPOSITIFS ET PROCÉDÉ D’ÉLIMINATION D’IMPURETÉS DANS DE L’EAU UTILISANT DE LA CHALEUR À BASSE ÉNERGIE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/009259    N° de la demande internationale :    PCT/US2009/050737
Date de publication : 21.01.2010 Date de dépôt international : 15.07.2009
CIB :
C02F 1/04 (2006.01), B01D 1/02 (2006.01), B01D 1/14 (2006.01), B01D 5/00 (2006.01)
Déposants : TIAX LLC [US/US]; 15 Acorn Park Cambridge, MA 02140-2390 (US) (Tous Sauf US).
DIECKMANN, John, T. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : DIECKMANN, John, T.; (US)
Mandataire : FILIP, Beth, A.; (US)
Données relatives à la priorité :
61/135,789 16.07.2008 US
Titre (EN) DEVICES AND METHOD FOR REMOVING IMPURITIES FROM WATER USING LOW GRADE HEAT
(FR) DISPOSITIFS ET PROCÉDÉ D’ÉLIMINATION D’IMPURETÉS DANS DE L’EAU UTILISANT DE LA CHALEUR À BASSE ÉNERGIE
Abrégé : front page image
(EN)A method and system for removing impurities from water including heating a first gas stream including a first gas or a gas mixture and pre-humidifying the first gas stream using water from an impure water source. Heat may be transferred the first gas stream to a second gas stream, wherein the second gas stream includes a second gas or a gas mixture and wherein the first gas stream and the second gas stream flow in opposing directions. Water may be condensed out of the first gas stream and the second gas stream may be contacted with impure water, evaporating at least a portion of water from the impure water into the second gas stream to humidify the second gas stream. The first gas stream and the second gas stream are sustained at or near ambient pressure.
(FR)L'invention concerne un procédé et un système destinés à éliminer des impuretés présentes dans de l’eau, comportant les étapes consistant à chauffer un premier flux de gaz comprenant un premier gaz ou un mélange de gaz et à pré-humidifier le premier flux de gaz en utilisant de l’eau provenant d’une source d’eau impure. De la chaleur peut être transférée du premier flux de gaz à un deuxième flux de gaz, le deuxième flux de gaz comprenant un deuxième gaz ou un mélange de gaz, et les premier et deuxième flux de gaz circulant dans des sens opposés. L’eau peut être condensée pour l’extraire du premier flux de gaz et le deuxième flux de gaz peut être mis en contact avec de l’eau impure, évaporant au moins une partie de l’eau impure qui rejoint le deuxième flux de gaz pour humidifier celui-ci. Le premier flux de gaz et le deuxième flux de gaz sont maintenus à la pression ambiante ou au voisinage de celle-ci.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)