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1. (WO2010009234) SUBSTRATS MÉTALLIQUES COMPRENANT DES FILMS MINCES NANOPOREUX D'OXYDE DE MÉTAL ET LEURS PROCÉDÉS DE FABRICATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/009234    N° de la demande internationale :    PCT/US2009/050698
Date de publication : 21.01.2010 Date de dépôt international : 15.07.2009
CIB :
B32B 15/04 (2006.01), C23C 22/82 (2006.01)
Déposants : WISCONSIN ALUMNI RESEARCH FOUNDATION [US/US]; 614 Walnut Street, 13th Floor Madison, WI 53726 (US) (Tous Sauf US).
ANDERSON, Marc, A. [US/US]; (US).
TEJEDOR, M., Isabel [US/US]; (US).
CHRISTENSEN, Ole [US/US]; (US)
Inventeurs : ANDERSON, Marc, A.; (US).
TEJEDOR, M., Isabel; (US).
CHRISTENSEN, Ole; (US)
Mandataire : GOFF, Christopher, M.; (US)
Données relatives à la priorité :
61/081,271 16.07.2008 US
Titre (EN) METAL SUBSTRATES INCLUDING METAL OXIDE NANOPOROUS THIN FILMS AND METHODS OF MAKING THE SAME
(FR) SUBSTRATS MÉTALLIQUES COMPRENANT DES FILMS MINCES NANOPOREUX D'OXYDE DE MÉTAL ET LEURS PROCÉDÉS DE FABRICATION
Abrégé : front page image
(EN)The present disclosure is directed to a metal-containing apparatus including a substrate member constructed of a metal that is highly resistant to pitting corrosion and wear in aggressive media. An exemplary metal-containing apparatus is a plate heat exchanger. The metal includes an oxidation layer on the surface thereof and a thin metal oxide nanoporous film on top of the oxidation layer. The nanoporous film is highly compliant and is comprised of oxygen and aluminum, titanium, silicon, zirconium and combinations thereof.
(FR)La présente invention porte sur un appareil contenant du métal, comprenant un élément de substrat construit à partir d'un métal qui est hautement résistant à une corrosion par piqûre et à l'usure dans des milieux agressifs. Un appareil contenant un métal donné à titre d'exemple est un échangeur de chaleur à plaques. Le métal comprend une couche d'oxydation sur la surface de celui-ci et un film mince nanoporeux d'oxyde de métal sur la couche d'oxydation. Le film nanoporeux est hautement élastique et est composé d'oxygène et d'aluminium, de titane, de silicium, de zirconium et des combinaisons de ceux-ci.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)