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1. (WO2010008604) DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS ALLONGÉS ET LEURS PROCÉDÉS DE FABRICATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/008604    N° de la demande internationale :    PCT/US2009/004177
Date de publication : 21.01.2010 Date de dépôt international : 17.07.2009
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    12.02.2010    
CIB :
H01L 31/0392 (2006.01), H01L 27/142 (2006.01), H01L 31/0336 (2006.01)
Déposants : SOLYNDRA, INC. [US/US]; 47700 Kato Road Fremont, CA 94538 (US) (Tous Sauf US).
MILSHTEIN, Erel [US/US]; (US) (US Seulement).
BULLER, Benyamin [IL/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : MILSHTEIN, Erel; (US).
BULLER, Benyamin; (US)
Mandataire : LOVEJOY, Brett; Jones Day 222 East 41st Street New York, NY 10017-6702 (US)
Données relatives à la priorité :
61/082,148 18.07.2008 US
Titre (EN) ELONGATED SEMICONDUCTOR DEVICES AND METHODS OF MAKING THE SAME
(FR) DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS ALLONGÉS ET LEURS PROCÉDÉS DE FABRICATION
Abrégé : front page image
(EN)A patterned conductive layer is disposed around a nonplanar substrate, where a boundary of the conductive layer is defined by a single groove that traverses a perimeter of the substrate a plurality of times. A patterned conductive layer is disposed around a nonplanar substrate, where the patterned conductive layer is divided into a plurality of conductive islands by a groove that extends through a thickness of the conductive layer and traverses a perimeter of the substrate a plurality of times, and a groove extends through the thickness of the conductive layer and traverses a length of the substrate. A method of patterning a conductive layer disposed around a nonplanar substrate includes scribing the conductive layer thereby forming a continuous groove that traverses a perimeter of the conductive layer a plurality of times.
(FR)L'invention concerne une couche conductrice à motif qui est disposée autour d'un substrat non planaire, où une limite de la couche conductrice est définie par une seule rainure qui traverse plusieurs fois un périmètre du substrat. Une couche conductrice à motif est disposée autour d'un substrat non planaire, où la couche conductrice à motif est divisée en plusieurs îlots conducteurs par une rainure qui traverse une épaisseur de la couche conductrice et traverse plusieurs fois un périmètre du substrat, et une rainure qui s'étend à travers l'épaisseur de la couche conductrice et traverse une longueur du substrat. Un procédé de création de motifs d'une couche conductrice disposée autour d'un substrat non planaire consiste notamment à rainurer la couche conductrice pour former une rainure continue qui traverse plusieurs fois un périmètre de la couche conductrice.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)