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1. (WO2010008439) SYSTÈME DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR DE PLASMA ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE MODULES ET DE PANNEAUX DE CELLULES SOLAIRES À PELLICULE MINCE EN SILICIUM MULTI-JONCTION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/008439    N° de la demande internationale :    PCT/US2009/003516
Date de publication : 21.01.2010 Date de dépôt international : 11.06.2009
CIB :
C23C 14/00 (2006.01)
Déposants : ASLAMI, Mohd [US/US]; (US)
Inventeurs : ASLAMI, Mohd; (US)
Mandataire : COLAIANNI, Joseph; (US)
Données relatives à la priorité :
12/216,091 30.06.2008 US
Titre (EN) PLASMA VAPOR DEPOSITION SYSTEM AND METHOD FOR MAKING MULTI-JUNCTION SILICON THIN FILM SOLAR CELL MODULES AND PANELS
(FR) SYSTÈME DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR DE PLASMA ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE MODULES ET DE PANNEAUX DE CELLULES SOLAIRES À PELLICULE MINCE EN SILICIUM MULTI-JONCTION
Abrégé : front page image
(EN)A plasma vapor deposition system for making multi-junction silicon thin film solar cell modules and panels including a flexible substrate disposed about and removably supported by a dual-walled cylindrical substrate support for axially rotating the flexible substrate about its longitudinal axis, the dual- walled cylindrical substrate support comprising an inner wall spaced apart by an outer wall to define a coaxial cavity, a plasma vapor deposition torch located substantially adjacent to the flexible substrate for depositing at least one thin film material layer on an outer surface of the flexible substrate; and a traversing platform for supporting the rotatable substrate support relative to the plasma vapor deposition torch, the rotatable substrate support being traversed along its longitudinal axis by the traversing platform.
(FR)L’invention concerne un système de dépôt en phase vapeur de plasma servant à fabriquer des modules et des panneaux de cellules solaires à pellicule mince en silicium multi-jonction comprenant un substrat flexible disposé à proximité et supporté de façon amovible par un support de substrat cylindrique à double paroi pour faire tourner axialement le substrat flexible autour de son axe longitudinal, le support de substrat cylindrique à double paroi comprenant une paroi intérieur séparée par une paroi extérieure pour définir une cavité coaxiale, une torche de dépôt en phase vapeur de plasma sensiblement adjacente au substrat flexible pour déposer au moins une couche de matériau en pellicule mince sur une surface extérieure du substrat flexible ; et une plateforme transversale servant à supporter le support de substrat rotatif par rapport à la torche de dépôt en phase vapeur de plasma, le support de substrat rotatif étant traversé le long de son axe longitudinal par la plateforme transversale.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)