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1. (WO2010007989) OXYDE COMPLEXE FRITTÉ, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN OXYDE COMPLEXE FRITTÉ, CIBLE DE PULVÉRISATION CATHODIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN FILM MINCE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/007989    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/062739
Date de publication : 21.01.2010 Date de dépôt international : 14.07.2009
CIB :
C04B 35/453 (2006.01), C23C 14/08 (2006.01), C23C 14/34 (2006.01)
Déposants : TOSOH CORPORATION [JP/JP]; 4560, Kaisei-cho, Shunan-shi, Yamaguchi 7468501 (JP) (Tous Sauf US).
KURAMOCHI Hideto [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
OMI Kenji [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
ICHIDA Masanori [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
IIGUSA Hitoshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KURAMOCHI Hideto; (JP).
OMI Kenji; (JP).
ICHIDA Masanori; (JP).
IIGUSA Hitoshi; (JP)
Mandataire : HASEGAWA Yoshiki; SOEI PATENT AND LAW FIRM, Marunouchi MY PLAZA (Meiji Yasuda Life Bldg.) 9th fl., 1-1, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000005 (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-183461 15.07.2008 JP
Titre (EN) SINTERED COMPLEX OXIDE, METHOD FOR PRODUCING SINTERED COMPLEX OXIDE, SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCING THIN FILM
(FR) OXYDE COMPLEXE FRITTÉ, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN OXYDE COMPLEXE FRITTÉ, CIBLE DE PULVÉRISATION CATHODIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN FILM MINCE
(JA) 複合酸化物焼結体、複合酸化物焼結体の製造方法、スパッタリングターゲット及び薄膜の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)A sintered complex oxide containing metal oxide particles (a) having a hexagonal lamellar structure and containing zinc oxide and indium, and metal oxide particles (b) having a spinel structure and containing a metal element M (provided that M represents aluminum and/or gallium. The metal oxide particles (a) have a mean particle length of not more than 10 μm, and not less than 20% of the metal oxide particles (a) on a number basis have an aspect ratio (length/breadth) of not less than 2.
(FR)L'invention porte sur un oxyde complexe fritté contenant des particules d'oxyde métallique (a) ayant une structure lamellaire hexagonale et contenant de l'oxyde de zinc et de l'indium, et des particules d'oxyde métallique (b) ayant une structure de spinelle et contenant un élément métal M (à la condition que M représente l'aluminium et/ou le gallium). Les particules d'oxyde métallique (a) ont une longueur moyenne de particule inférieure ou égale à 10 µm, et pas moins de 20 % des particules d'oxyde métallique (a) par rapport au nombre ont un rapport d'allongement (longueur/largeur) supérieur ou égal à 2.
(JA) 六方晶系層状構造を有し、酸化亜鉛及びインジウムを含む金属酸化物粒子(a)と、スピネル構造を有し、金属元素M(但し、Mはアルミニウム及び/又はガリウム)を含む金属酸化物粒子(b)と、を含む複合酸化物焼結体であって、上記金属酸化物粒子(a)の長径の平均値は、10μm以下であり、上記金属酸化物粒子(a)の個数基準で20%以上は、アスペクト比(長径/短径)が2以上である、複合酸化物焼結体。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)