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1. (WO2010007980) ALLIAGES POUR COUCHES PELLICULAIRES MAGNÉTIQUES MOLLES DANS DES SUPPORTS D’ENREGISTREMENT MAGNÉTIQUES VERTICAUX, MATÉRIAUX DE CIBLES DE PULVÉRISATION ET LEUR PROCÉDÉ DE FABRICATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2010/007980    N° de la demande internationale :    PCT/JP2009/062716
Date de publication : 21.01.2010 Date de dépôt international : 14.07.2009
CIB :
C22C 19/07 (2006.01), B22F 1/00 (2006.01), B22F 3/14 (2006.01), C22C 1/04 (2006.01), C22C 38/00 (2006.01), C23C 14/34 (2006.01), G11B 5/851 (2006.01)
Déposants : SANYO SPECIAL STEEL CO., LTD. [JP/JP]; 3007, Aza-Ichimonji, Nakashima, Shikama-ku, Himeji-shi, Hyogo 6728677 (JP) (Tous Sauf US).
SAWADA Toshiyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KISHIDA Atsushi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
HASEGAWA Hiroyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
YANAGITANI Akihiko [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : SAWADA Toshiyuki; (JP).
KISHIDA Atsushi; (JP).
HASEGAWA Hiroyuki; (JP).
YANAGITANI Akihiko; (JP)
Mandataire : YOSHITAKE Kenji; (JP)
Données relatives à la priorité :
2008-182645 14.07.2008 JP
Titre (EN) ALLOYS FOR SOFT MAGNETIC FILM LAYERS IN VERTICAL MAGNETIC RECORDING MEDIA, SPUTTERING TARGET MATERIALS AND MANUFACTURING METHOD THEREFORE
(FR) ALLIAGES POUR COUCHES PELLICULAIRES MAGNÉTIQUES MOLLES DANS DES SUPPORTS D’ENREGISTREMENT MAGNÉTIQUES VERTICAUX, MATÉRIAUX DE CIBLES DE PULVÉRISATION ET LEUR PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用合金およびスパッタリングターゲット材並びにその製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Provided are soft magnetic alloys for vertical magnetic recording media with superior saturation magnetic flux density, non-crystallinity and corrosion resistance, and sputtering target materials that, while having the superior alloy composition overall, have high PTF values that can be used effectively during magnetron sputtering. The alloys comprise, in atom%, Fe in an amount of 10-45%, Ni in an amount of 1-25%, one, two or more of Zr, Hf, Nb, Ta, and B in a total amount of 5-10% for Zr+Hf+Nb+Ta+B/2 (provided B is greater than 0% and less than 7%), one or both of Al and Cr in a total amount of 0-5% for Al+Cr, and residual Co and unavoidable impurities in a total amount of 37% or more. By atomic ratios, these alloys satisfy Fe/(Co+Fe+Ni): 0.10-0.50 and Ni/(Co+Fe+Ni): 0.01-0.25.
(FR)L’invention concerne des alliages magnétiques mous pour des supports d’enregistrement magnétiques  verticaux avec une densité de flux magnétique de saturation, une non-cristallinité et une résistance à la corrosion supérieures, et des matériaux de cibles de pulvérisation qui, tout en étant sensiblement composés des alliages supérieurs, présentent des valeurs PTF élevées qui peuvent être utilisées efficacement pendant la pulvérisation de magnétrons. Les alliages comprennent, en % atomique, du Fe dans une proportion de 10-45 % ; du Ni dans une proportion de 1-25 %, un ou plusieurs éléments sélectionnés parmi Zr, Hf, Nb, Ta, et B dans une proportion totale de 5-10 % pour Zr+Hf+Nb+Ta+B/2 (à condition que B soit supérieur à 0 % et inférieur à 7 %), de l’Al ou du Cr ou les deux dans une proportion totale de 0-5 % pour Al+Cr, et du Co résiduel et les impuretés inévitables dans une proportion totale de 37 % ou plus. Par les rapports atomiques, ces alliages satisfont Fe/(Co+Fe+Ni): 0,10-0,50 et Ni/(Co+Fe+Ni): 0,01-0,25.
(JA) 飽和磁束密度、非晶質性および耐食性に優れた垂直磁気記録媒体用軟磁性合金、およびこの優れた合金組成を全体としては有しながらもマグネトロンスパッタ時に効率よく使用できる高PTF値を有するスパッタリングターゲット材が提供される。この合金は、原子%で、Fe:10~45%、Ni:1~25%、Zr,Hf,Nb,Ta,Bの1種または2種以上:Zr+Hf+Nb+Ta+B/2の合計量で5~10%(ただし、Bは0%以上7%以下)、 Al,Crの1種または2種:Al+Crの合計量で0~5%、および残部Coおよび不可避的不純物:37%以上からなり、かつ原子比で、Fe/(Co+Fe+Ni):0.10~0.50、およびNi/(Co+Fe+Ni):0.01~0.25を満たすものである。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)